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cz.87101

木虫 (正式写手)

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[交流] 【急急急】有用射频磁控溅射硒Se靶的么？

做了一次15w功率，结果靶面怎么隆起了，而且表面变黑了，这是咋回事？

溅射气体是氩气，无反应气体。

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1楼 2012-04-27 11:46:13

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cz.87101

木虫 (正式写手)

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引用回帖:

8楼: Originally posted by 2011210017 at 2012-05-01 18:21:31:
我百度了一下硒是非金属，应该不导电，所以只能用射频溅射了，靶面隆起可能和他熔点低，溅射过程温度过高导致。不启辉量下靶面与靶罩间的电阻，看下短路没有。
你做实验前真空抽到什么程度了？

没短路，真空度在5×10-4pa以下，基本上实验参数设置都没有问题，

第一次溅射有偏压，起辉，就是没溅射到基片上

再溅射就是没有偏压，所以第二次就不起辉了

再想办法吧