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yanjunqing

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[交流] JACS最新黑色TiO2——窄带隙已有47人参与

具有窄带隙的黑色TiO2一篇通讯类文章。
刚接触黑色TiO2，那还是去年看到的chenxiaobo的那篇science（Science 2011, 331, 746.），关于chenxiaobo，已经发表了关于TiO2方面的很多牛文，比如J. Am. Chem. Soc., 2008, 130, 5018，Chem. Rev. 2005, 105, 1025.。大家如果有兴趣可以上网查查他的文章。
这里不废话了，开始这篇文章的浅析。这篇文章的亮点，鄙人认为是一步还原结晶法合成出具有1.85ev窄带隙的黑色TiO2。不过感觉最大的两点还是1.85ev的窄带隙。关于窄带隙，文章中也有提到，之前就有人合成出了具有2.1ev和1.0ev的窄带隙。窄的带隙，具有较好的可见光活性。如果能较好的合成出具有较好稳定性、如文献所说高活性的窄带隙TiO2，那光催化工业化也就不远了。
文章给出，黑色纯TiO2具有窄带隙的原因是由于体内的氧缺陷位（VOs）和表面的不对称性（surface disorder）。作者利用Rietveld-refinement SXRPD、Raman、CL等都证明了高浓度氧空位的存在。有趣的是，作者用到了物理学中的阴极发光。个人认为，现在的传统物理表征要是能恰巧地运用到化学材料表征中，就能发个号文章。比如，之前利用物理学中的等离子共振效应来解释Au负载在TiO2上的可见光响应、还有正电子淹没等等。
HRTEM能给出很好的结构信息。本文的TEM和FFT结果得出黑色的TiO2晶格间隙比起正常的要缩小4%左右，这也证明了存在大量的氧空位。
作者同时利用ELNES和EPR、XPS等传统表征手段，来证明作者要给出的结论。
好了，不瞎说了。欢迎各位高手拍砖。[ Last edited by yanjunqing on 2012-4-23 at 21:19 ]

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附件 1 : JACS黑色TiO2-窄带隙.pdf

2012-04-23 17:01:25, 649.69 K

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