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[交流]
不同条件下合成的MOF，为什么XRD谱图不同？？
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合成的MOF，条件不同，后期处理也不同，结果测XRD时，出峰位置和峰强都明显不同，看了一些文献，文中报道的也有很大差别，由于孔道中通常含有客体分子，是不是MOF没有一个标准的XRD谱图？？ 求大牛指导 |
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大懒虫^_^(金币+1): 谢谢参与
lijunjie84: 金币+2, 鼓励原创！！！！！！！1 2012-04-04 21:00:23
lijunjie84: CMEI+1, 授CMEI一枚，以兹鼓励！！！！！！！！呵呵 2012-04-04 21:01:26
大懒虫^_^: 金币+5, 说的非常好，感谢你的专业帮助 2012-04-04 21:49:47
大懒虫^_^(金币+1): 谢谢参与
lijunjie84: 金币+2, 鼓励原创！！！！！！！1 2012-04-04 21:00:23
lijunjie84: CMEI+1, 授CMEI一枚，以兹鼓励！！！！！！！！呵呵 2012-04-04 21:01:26
大懒虫^_^: 金币+5, 说的非常好，感谢你的专业帮助 2012-04-04 21:49:47
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对于同一种MOF，XRD的出峰位置是一样的，否则就不是同一个东西。即使MOF孔道中有一些溶剂分子，也不会影响XRD图谱。 但是，我们应该注意到， 第一，用同一种金属离子，同一种配体，不同的反应条件也能得出不同类型的MOF来。这种例子很多。比如MIL-53和MIL-101,都是Cr-BDC.还有MOF-2，MOF-3，MOF-4，MOF-5，都是Zn-BDC. 第二，即使是同一种MOF，如果MOF是柔性的，比如MIL-53，采用不同的处理方式，导致孔道中的溶剂分子不同，会使材料出于不同的状态（小孔，大孔？），这样XRD当然不一样的。 第三，如果MOF中德溶剂分子配位在MOF中，会导致XRD多一个峰或少一个峰。比如CuBTC。但绝大多数峰是一样的，你所说的应该不属于这一种情况。 总之，给你个方向，具体还得你自己用实验进一步验证。 |
4楼2012-04-04 18:28:24
