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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 专业学科区 » 物理 » 凝聚态物理 » 磁控溅射能起辉，但不能沉积
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qiuzc

银虫 (小有名气)

[求助] 磁控溅射能起辉，但不能沉积

我用射频磁控溅射，溅射Al靶，功率试过从80W增加到200W，时间为两小时。能起辉，但石英基片上没任何东西。之前反应溅射锌靶镀氧化锌，能镀出氧化锌，但怎么都不厚，而直接溅射锌（同一靶材），却没有沉积锌。

[ Last edited by qiuzc on 2012-3-23 at 09:11 ]
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1楼2012-03-23 09:09:41
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ybhan

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
qiuzc: 金币+3, ★有帮助 2012-05-14 21:57:21
我曾经也遇到过这样的情况，溅射TiO2和ZnO时，溅射速率很慢，要几个小时才能镀上一百纳米厚。这种材料据说是因为Ti或Zn靶材表面被氧化后，偏压减少，从而使得离子即使被溅射出来，很快又回到靶上，从而减少了沉积速度。这是正常的，射频溅射 好像就ZnO，TiO2， Al2O3这几种不好溅射。
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6楼2012-03-26 09:30:14
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ybhan

金虫 (正式写手)
引用回帖:
3楼: Originally posted by leongoall at 2012-03-24 17:36:46:
楼主为何利用射频源来溅射金属Al或者Zn呢？射频磁控溅射一般都是针对绝缘体的靶材或者导电性相对较差的靶材，利用同一周期内电子比正离子速度快进而沉积到靶材上的电子数目比正离子数目多从而建立起自偏压对离子进 ...

我感觉你说反了，金属比较容易溅射，以前我溅射Au，Ag，Cu等材料，速度不是一般的快啊。金属氧化物才难得溅射
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7楼2012-03-26 09:31:38
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