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cenwanglai荣誉版主 (知名作家)
老和山猥琐派九段
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[求助]
求过渡金属氧化物中O2p +U修正参数
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下图是金属氧化取代掺杂缺陷处，掺杂元素M3d与周围O2p形成M3d-O2p间隙态的partial charge density plot. 参数：M 3d +U 修正；O 2p未做U修正。整个slab结构保持C3v对称结构。 问题： （1）O2p加U修正+移动M和O原子破坏对称性，是否能够让O2p的间隙态局域到一个O原子上，而不是现在的六重简并结构？ （2）计算电子结构，过度金属氧化物中O2p是否有必要做+U修正？修正过的U取多少？ 我自己现在在试算。看看大家都什么看法。等我结果出来做一下对比~  M3d-O2p 间隙态 [ Last edited by cenwanglai on 2011-12-16 at 14:48 ] |
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 杂七杂八 |
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【答案】应助回帖
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感谢参与，应助指数 +1
zzy870720z(金币+2): 谢谢讨论交流 2011-12-16 18:12:19
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zzy870720z(金币+2): 谢谢讨论交流 2011-12-16 18:12:19
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对于O2p没必要做+U处理吧，+U处理一般是对d，f轨道的 The L(S)DA often fails to describe systems with localized (strongly correlated) d and f electrons (this manifests itself primarily in the form of unrealistic one-electron energies). In some cases this can be remedied by introducing a strong intra-atomic interaction in a screened) Hartree-Fock like manner, as an on site replacement of the L(S)DA. This approach is commonly known as the L(S)DA+U method. 不过也有对p处理的 |
2楼2011-12-16 14:41:54
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