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z1c2zc铁杆木虫 (初入文坛)
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[求助]
【求助】H2-TPR的问题
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拿样品NiO-Al2O3做TPR的时候基线总是很不稳，开始高结束后降低了很多。而且每隔一段时间会出现一小的干扰峰 先用He气吹扫试样，会对TCD测试H2浓度产生影响吗？ 哪位高人能帮帮我？这是怎么回事？如何解决呢？  NiO-Al2O3 [ Last edited by z1c2zc on 2011-11-8 at 23:00 ] |
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z1c2zc
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谢谢.. 用AgO标样做TPR的时候基线正常，也没有小的干扰峰（见附图），初步排除了仪器的问题；现在考虑会不会是程序的问题 Experiment /Prep gas 为He； Wait / 等待10min; Wait / 换冷肼； Change gas flow /通载气10H2-Ar： Wait / 等待，直到基线平稳； Start Recording / 开始记录； Temperature ramp / 升温速率 10；升至1000度 Stop recording / 停止记录； Done / 完成， 载气通Ar 催化剂NiO-Al2O3加的量为50mg，会不会是应为催化剂量加多了，高温时催化剂膨胀导致...  |
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