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henry2651

金虫 (正式写手)

[求助] 请教磁控溅射(PVD)溅射铜膜时对腔室的污染问题

前段时间听说溅射制备铜薄膜时会对腔室产生较大的污染,比其他薄膜材料的污染大,有清楚的帮忙解释一下,或是否有这回事,先谢过!
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xiangmengli

金虫 (正式写手)

微纳米小木虫

【答案】应助回帖

henry2651(金币+10): 非常感谢,发晚了。有段时间没看了。 2011-12-03 22:45:24
这个污染属于无厘头的说法,因为溅射的原理主要是氩等离子轰击靶材使靶材中原子溅射,污染源主要是靶材周围,没有理由针对铜靶材,而忽视别的材料。腔室肯定有污染,不管是什么材料。到处都是。只要在溅射过程中等离子体不会到达被污染的腔室壁面,这个污染就会很小的。当然,得看设备的设置如何了,设备工程师们都考虑到了。
梅花香自苦寒来
2楼2011-11-23 15:04:50
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