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[交流]
求助 硅片表面图案化处理后，氯苯等有机溶剂还是无法图案化。 已有1人参与
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具体的情况是这样的。 最近我一直在做关于SAM的工艺。 就是用硅烷偶联剂处理硅片的表面，让硅片表面形成图案化的烷基链区域 然后在硅片表面静置有机溶剂，让它们停留在没有被烷基化的区域。 但是我做了一个多月了还是没有做好。 具体的操作是这样的。 先把硅片羟基化，然后再用ODTS浸泡，然后在用有图案的mask盖上在UV OZONE下清洗。 理论上讲，uv ozone照射的地方是亲水的，烷基化的地方时疏水的。 有机溶剂（氯苯 二氯苯 甲苯 二甲苯等）应该停留在亲水的地方 而不是停留在烷基化的地方。这样就达到了图案化的效果。 但是我的氯苯还是可以在烷基化的区域停留，并且接触角只有10°左右，完全达不到预期的效果。 但是我把溶剂换成水，就可以图案化了。 这是为什么？有没有人跟我做同样的实验，希望大家交流一下。 我的邮箱 dizzy1011@163.com QQ：571500159 |
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zhouxuannj
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