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dizzy1011

新虫 (初入文坛)

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[交流] 求助硅片表面图案化处理后，氯苯等有机溶剂还是无法图案化。已有1人参与

具体的情况是这样的。
最近我一直在做关于SAM的工艺。

就是用硅烷偶联剂处理硅片的表面，让硅片表面形成图案化的烷基链区域

然后在硅片表面静置有机溶剂，让它们停留在没有被烷基化的区域。

但是我做了一个多月了还是没有做好。

具体的操作是这样的。

先把硅片羟基化，然后再用ODTS浸泡，然后在用有图案的mask盖上在UV OZONE下清洗。

理论上讲，uv ozone照射的地方是亲水的，烷基化的地方时疏水的。

有机溶剂（氯苯二氯苯甲苯二甲苯等）应该停留在亲水的地方而不是停留在烷基化的地方。这样就达到了图案化的效果。

但是我的氯苯还是可以在烷基化的区域停留，并且接触角只有10°左右，完全达不到预期的效果。

但是我把溶剂换成水，就可以图案化了。

这是为什么？有没有人跟我做同样的实验，希望大家交流一下。

我的邮箱 dizzy1011@163.com

QQ：571500159

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