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orchid8299

金虫 (正式写手)

2者的目的都是为了提高硅片的质量。除磷、硼为降低气杂质磷硼的含量,而吸杂是在硅片的表面进行掺杂磷和硼,目的是把硅片中的其他金属杂质去除,最后还是要把表面的吸杂层用腐蚀液去掉的。
11楼2011-09-22 10:12:46
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trifle

金虫 (正式写手)


小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖
引用回帖:
3楼: Originally posted by manmansboy at 2011-08-15 16:00:19:
你先想一个问题,在配置一定质量溶液的过程中,我们有这样一个经验。
如果一下把水加多了,那个水就没法弄出来,这浓度肯定稀了。
而如果水少了,再加点就可以了,对不对?
这个硅也是一样,在做太阳能电池中, ...

同意3楼说的,非常通俗。提纯时候BP杂质不可控,作为原料越纯越好。后续制作器件需要根据目标器件的性能要求掺杂,可以达到人为控制的目的。
12楼2011-09-27 16:25:18
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fancy922

禁虫 (初入文坛)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
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13楼2013-10-26 10:15:40
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