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磁控溅射镀氧化铝
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gcdxxiaona
银虫
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虫号: 1121240
[交流]
磁控溅射镀氧化铝
磁控溅射在玻璃上镀氧化铝薄膜,用中频反应和直流反应镀膜,沉积一个小时玻璃上竟然什么都没镀上,辉光也正常,到底什么原因啊,各位谁做过这方面的给点意见,谢谢!
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九品墨徒
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2011-07-20 21:06:21
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gcdxxiaona
银虫
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虫号: 1121240
引用回帖:
Originally posted by
平凡一生
at 2011-07-21 12:57:43:
我是做low-e玻璃镀膜的,我们没有用Al靶,用的是Zn靶和Si靶,气氛是Ar700sccm,N2 700,功率30-50Kw。中频反应溅射,可以交流一下。
我用中频反应的,铝靶,Ar:O2=1000:240,功率3600W,什么都没镀上,靶上有溅射痕迹
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8楼
2011-07-21 21:06:07
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bytianping
金虫
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★
gcdxxiaona(金币
+1
):谢谢参与
请问如何判断没镀上呢?
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2楼
2011-07-20 21:43:56
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pcsmine
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虫号: 996431
★
gcdxxiaona(金币
+1
):谢谢参与
是不是该用射频啊
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3楼
2011-07-20 22:15:28
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九品墨徒
银虫
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虫号: 979021
★ ★
gcdxxiaona(金币
+1
):谢谢参与
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zhangquan8385(金币+1): 鼓励交流分享 2011-07-22 09:02:20
哈哈哈!我也遇到过此类问题!我镀的是Al膜,射频溅射,刚开始还可以,后来竟然就不行了!!!!我就是不知道怎么回事!直流也不行!但是靶上面有溅射的痕迹!就是基底上什么都没有!
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4楼
2011-07-20 22:52:52
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