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磁控溅射镀氧化铝
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gcdxxiaona
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[交流]
磁控溅射镀氧化铝
磁控溅射在玻璃上镀氧化铝薄膜,用中频反应和直流反应镀膜,沉积一个小时玻璃上竟然什么都没镀上,辉光也正常,到底什么原因啊,各位谁做过这方面的给点意见,谢谢!
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九品墨徒
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2011-07-20 21:06:21
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cmshi
木虫
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虫号: 782258
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
2011年的帖子,2015年回复一下,不知道还有人看得到不。
1、判断是否镀上膜,其实很简单,把玻璃片的一部分遮挡,用夹子,金属片,玻璃片什么的都行,只要不是受热分解的有机物都行,镀膜后再去掉,这样有膜和没膜的地方就形成了一个台阶,用台阶仪一测便知。
2、如果实在厚度太小,或根本没镀上,可以考虑降低氧气流量,或同时通入氩气(最好是在靶材附近),具体配比和压力根据实际设备情况调整。
3、一般情况下,镀氧化物薄膜的压强、偏压和功率都不要太大,否则会造成等离子体放电反应剧烈而导致离子到达基体表面之前就与氧气发生反应,形成大量粉末,而非薄膜。
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31楼
2015-02-27 16:43:02
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bytianping
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★
gcdxxiaona(金币
+1
):谢谢参与
请问如何判断没镀上呢?
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2楼
2011-07-20 21:43:56
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pcsmine
木虫
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★
gcdxxiaona(金币
+1
):谢谢参与
是不是该用射频啊
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3楼
2011-07-20 22:15:28
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银虫
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★ ★
gcdxxiaona(金币
+1
):谢谢参与
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zhangquan8385(金币+1): 鼓励交流分享 2011-07-22 09:02:20
哈哈哈!我也遇到过此类问题!我镀的是Al膜,射频溅射,刚开始还可以,后来竟然就不行了!!!!我就是不知道怎么回事!直流也不行!但是靶上面有溅射的痕迹!就是基底上什么都没有!
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4楼
2011-07-20 22:52:52
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