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luoluoasdf

银虫 (小有名气)

[求助] DFT计算禁带宽度的缺点

怎么设置MS能够减小禁带计算的误差啊?新装上MS5.5但是不知道如何设置才能减小计算氧化物或半导体时带隙的误差?
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souledge

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★
gzqdyouxia(金币+1): 谢谢提示 2011-05-27 10:42:15
gzqdyouxia(金币+1): 谢谢提示 2011-05-27 10:42:24
luoluoasdf(金币+1): 我整明白了,谢谢! 2011-05-27 19:38:05
顺便,基于分子轨道的第一性原理软件在Band Gap的计算上比较好一点~比如DV-xα(不过这货似乎也就这个方面比较有优势,其他都没了……)
思想重于技巧,内涵重于表象
3楼2011-05-26 21:12:00
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identation

金虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★
luoluoasdf(金币+2): 谢谢,用MS的castep计算的时候该如何设置 呢? 2011-05-26 20:29:18
zzy870720z(金币+3, 1ST强帖+1): 谢谢指教 2011-05-26 20:50:39
luoluoasdf(金币+10): 2011-06-03 20:36:36
luoluoasdf(金币+9): 2011-07-18 19:02:41
一般低估半导体禁带宽度是现在第一性原理计算的普遍问题,我知道的能改善禁带宽度的名词有这样几个,其实我也不太懂。
第一个关键词是GW准粒子方法,就是用这个修正可能得到和实验值相比接近的禁带宽度;第二个关键词是采用杂化泛函,这也能使计算的禁带宽度接近实验值;第三个关键词是DFT+U,但是这种方法由于U是一个经验化的参数,没有统一的方法确定,所以有这样几种思路,一种是采用不同的U值,计算态密度,然后和光电子能谱的数据对比,选取适当的U,这时候得到的带隙可能接近实验结果,这主要是针对3d,4f窄带进行的计算,采用的是Hubbard模型,当然,如果你知道实验的带隙,可以采用不同的U计算,带隙和实验的吻合了就好了,但是其实DFT+U的方法应该主要是改善普通LDA或GGA方法把绝缘体计算成金属的情况;第四个关键词是剪刀算符,但是用剪刀算符有两个条件,第一个就是你计算的体系有带隙,第二个条件是你知道实验的带隙,可直接用剪刀算符调整带隙至实验值,在计算光学性能的时候常常用到剪刀,因为光学性能相对于带隙是非常敏感的。
2楼2011-05-26 19:34:08
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identation

金虫 (著名写手)

【答案】应助回帖


gzqdyouxia(金币+1): 谢谢提示 2011-05-27 10:42:22
luoluoasdf(金币+3): 2011-06-03 20:36:31
MS我不太了解,不过你买的MS5.5应该有DFT+U的方法,这个可以试试
MS是有剪刀算符的,如果你知道体系实验的带隙,可以使用,在analysis中density of states和optical properties中都有剪刀的选项
4楼2011-05-26 21:18:57
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