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求教:H-ZSM-5的NH3-TPD
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capejasmines
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[
求助
]
求教:H-ZSM-5的NH3-TPD
分子筛在Ar气氛下550oC处理后,在Ar气氛中吹扫到100oC,用NH3/AR吸附后,再AR
吹扫,扫的谱线有NH317,NH216,氧32,水18。可是,为什么在脱附的时候有大量的氧出来啊,完全盖掉了NH2 16.
请教我的实验有问题吗?
文献上也是这样做的,为什么我的实验会有大量的O2脱出来呢,
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1楼
2011-04-25 13:10:30
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huanghua2002
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Originally posted by
xhtangxh
at 2011-04-25 20:20:54:
一般做NH3-TPD要经过抽真空脱气预处理的,做了么?只用Ar吹扫未必能除净孔道内的气体分子。另外,看看Ar或NH3的纯度,测一下是否含有O2。
脱气倒不需要吧 载气那么小的分子 气体吹扫和真空预抽效果是一样的
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5楼
2011-04-26 00:18:09
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huanghua2002
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【答案】应助回帖
capejasmines(金币+10): 感谢回复 2011-04-26 08:21:15
会不会本身体系漏气 对应你看看N2-28的峰强度怎样
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2楼
2011-04-25 15:31:10
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xhtangxh
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zhangwengui330(金币+1): 欢迎参与讨论! 2011-04-25 21:07:54
capejasmines(金币+10): 感谢回复 2011-04-26 08:21:56
一般做NH3-TPD要经过抽真空脱气预处理的,做了么?只用Ar吹扫未必能除净孔道内的气体分子。另外,看看Ar或NH3的纯度,测一下是否含有O2。
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3楼
2011-04-25 20:20:54
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xhtangxh
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Originally posted by
huanghua2002
at 2011-04-26 00:18:09:
脱气倒不需要吧 载气那么小的分子 气体吹扫和真空预抽效果是一样的
未必,这要看气体分子与分子筛的作用强弱。分子筛对不同物质的吸附作用往往是有差别的,Ar作为惰性气体,即使被吸附一般也只是极弱的物理吸附作用,而O2有时可能会形成较强化学吸附作用。
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6楼
2011-04-26 12:14:44
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