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teddy1019

铁虫 (初入文坛)

[交流] 磁控溅射出问题了大虾们帮帮忙 已有5人参与

刚下实验室磁控溅射就出问题了。
    主要的问题就是:辉光之后,无论怎么调匹配器的正溅和反溅都没有自偏压;而且反溅功率和正溅功率同步变化,正常情况应该是在溅射的时候把反溅功率降下去吧。
    不知道为什么反溅功率降下去的时候正溅功率也没了。
    还有一种现象就是:在辉光之后逐渐调低反溅功率的时候会出现瞬间的下降并伴随着辉光的消失,然后逐渐调高反溅功率,反溅功率又会突然上升辉光出现。这个过程中一直没有自偏压。
   测阴阳极电阻为4兆欧,是不是有点小啊?
   出问题好长时间了请各位大虾帮帮忙,帮忙琢磨下到底哪里出了问题。

[ Last edited by teddy1019 on 2011-4-19 at 08:30 ]
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心路泊客
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hao_wawa

木虫 (著名写手)


小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖
第一,我认为阴阳极间电阻过大,注意是过大,因为依据我的经验,就算是陶瓷靶,像Al2O3这样的高阻靶,我们溅射的时候电阻都是3k左右,但这个应该不是影响辉光和功率的主要因素,但是应该先将这个问题排查一下;
第二,试验一下能够起辉的最低功率,在能够起辉开始就一边加功率一边调节面板上的正反入射功率,找到那个会突变的临界功率,应该就ok
5楼2011-04-24 09:41:44
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teddy1019

铁虫 (初入文坛)

-_-人呢都不知道么!哎……自己研究吧 ,出了结果再说!
心路泊客
2楼2011-04-19 10:19:00
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kebaoyuan

禁言 (小有名气)

★ ★ ★ ★ ★
nono2009(金币-5): 请不要做广告! 2011-04-23 16:55:33
本帖内容被屏蔽

3楼2011-04-19 22:26:02
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bjbdlc

新虫 (初入文坛)


小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖
你做什么材料的啊?我也用磁控溅射做薄膜,经验仅供参考。我做的溅射功率(射频)的溅射功率是300W。反射电压开始时可能不高,可是到300W时下不去了。解决的方法是在200W时就要调节反射电压,切忌不要到了300W再调。如果调节对了,在200W时的反射电压是非常小的!
4楼2011-04-22 20:48:57
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