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【求助】2273测微弧氧化膜阻抗怎么测
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用的是2273电化学工作站测AZ91D镁合金表面微弧氧化膜阻抗曲线，但是总是很乱，波动幅值从5、10、20、30mv都试过，但依然还是不行。频率范围为100KHz-10mHz。 涂层厚度在15um左右，已经进行过沸水水煮法封孔。全浸泡2周后，几乎没有失重，涂层表面开始发暗，没有观察到剥离现象。 测试前试样提前在腐蚀液3.5%NaCl中浸泡了有1h，动电位测试正常，就是EIS很乱。 请问有知道这方面的知识的虫友吗？ [ Last edited by jeanzhouqi on 2011-4-4 at 20:05 ] |
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没做过封孔处理，不敢妄言，不过从看过的文献情况推断沸水封孔应该是封孔工艺中效果最差的，不知是否对比过封孔前后的孔径变化。浸泡2周后应该可以做一下涂层表面及截面的SEM，这样可以更加直观的观察到是否有腐蚀反应发生，仅从失重情况判断的话个人认为稍显牵强。 我用过2273测涂层的EIS，0.01——100k Hz，测一个的时间大概是7,8分钟的样子，不知道LZ得到一个阻抗谱需要多少时间，个人感觉如果时间太长的话，随着腐蚀液对涂层和基体金属的侵蚀，阻抗谱可能会出现散乱的情况，这只是我的猜测，希望对你能有所帮助。 涂层的EIS研究一般应该是做不同浸泡时间的阻抗图谱，然后通过比较图谱变化来分析腐蚀机理，不知LZ是否在浸泡的其它时间段也测量了阻抗，经验上来说，即使浸泡初期测出的EIS图谱乱点较多，到浸泡后期也会变得比较平滑易于分析的，而且只测量初期的图谱实际意义并不大。 |
9楼2011-04-04 20:30:41
2楼2011-04-01 21:31:02
3楼2011-04-04 11:36:11
jeanzhouqi(金币+5): 谢谢，我后来做过封孔，浸泡两周后，失重极少，几乎没有，没有出现明显的涂层剥离现象。。 2011-04-04 19:59:41
| 不是十分认同3L的观点，树脂的导电性比多孔的微弧氧化涂层要差很多，测出来的阻抗谱还是很漂亮的。不知道LZ涂层厚度是多少，腐蚀液用的什么溶液，我个人认为镁合金自身腐蚀性能很差，且微弧氧化涂层多孔，如果涂层较薄的话腐蚀液很容易渗透至基体，这样会导致镁合金基体被腐蚀，这样你实际测试的过程是一个动态的过程，可能是导致图谱散乱的原因。建议你做后一点的涂层，染后测试一下看看结果如何，如果实在不行就只能换仪器试试了，我用过2273和zahner，测出来的效果都很好，但是ivium测出来的图谱就很乱。个人建议，希望对LZ有所帮助。 |
4楼2011-04-04 15:13:41
