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【讨论】单晶硅衬底上附着Ni纳米颗粒
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想在单晶硅衬底上附着一层Ni纳米颗粒，要求颗粒大小均匀，分布均匀。 方案：1，将Ni粉末简单涂抹在基底上或者用酒精制成悬浊液滴在基底上，酒精挥发后即可。但是考虑这样Ni与基底附着不好，且分布也不均匀。 2希望得到Ni的氧化物在高温下用氢气还原，这个实验条件还是可以实现。但是如何得到氧化物还没有办法。或者采用其他镍盐在高温下用氢气处理。 上面是小弟的一些不成熟的想法，希望各位做无机的朋友或者其他做催化的朋友能够不吝赐教，小弟感激不敬！！ |
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催化大师(金币+5): 谢谢指点，欢迎常来催化版讨论！ 2011-01-24 17:28:17
380677864(金币+4): 2011-02-15 12:16:31
催化大师(金币+5): 谢谢指点，欢迎常来催化版讨论！ 2011-01-24 17:28:17
380677864(金币+4): 2011-02-15 12:16:31
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这个取决于你想做多大的，多均匀的Ni颗粒。不过一般都比较难。 要均匀分布，Spin-coating是比较好也比较简单实用的方法，当然也要用到可溶性前驱体，存在着加热或者还原后不均匀的问题。这个取决于你选择的前驱体。 lithography技术可以控制行貌，分散等等。就是要作到很小的纳米颗粒比较难。你可以查一些文献。 还有就是PVD，在真空下，直接把Ni蒸度到低温冷却的Si单晶上。低温是为了降低Ni的扩散能。 比较另类的方法还有，加强底版和Ni之间的相互作用，比如表面修饰一下Si。有人曾经在修饰TiO2表面得到过高分散的Cu，Ni等等。当然这个方法不一定适用你的研究。 还有很多很多方法，看看大家的意见吧 |
3楼2011-01-24 17:18:36
2楼2011-01-24 16:22:02
4楼2011-03-02 19:37:51
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