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【求助】光刻时显影不彻底 已有5人参与
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| 大家好，请问一下，光刻时（利用高压汞灯接触式曝光） 突然出现显影不彻底。而我以前按照这系参数都可以。光刻胶是新的，甩胶，烘烤的参数都没变。以前都好好的。最近老是出现显影不彻底。是什么原因呢？我个人是怀疑是光刻机上的汞灯功率变低了，有没有可能呢。谢谢！ |
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 实验们 |
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3楼2010-12-06 19:36:03
山大无边
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2楼2010-11-26 23:08:03
4楼2010-12-06 19:37:46
quanbaogang
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小木虫:)(金币+8):3q 2010-12-09 01:30:28
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一般而言，存在残胶是因为曝光剂量不足和/或者显影时间不够这两方面原因造成的。如果光刻胶厚度变了也可能影响图形结果，另外光刻胶在烘烤之后要及时曝光，否则会与空气中的二氧化碳反应形成一层保护膜，这样显影就受到阻碍，留下残胶也是可能的。 所以建议LZ可以测一下汞灯的光强，如果排除光强因素应该检查光刻胶的厚度。最好在涂胶后及时烘烤，在5分钟后及时曝光。 残胶的解决：用氧等离子体清洗； 避免残胶的办法（小窍门）：用超声显影代替普通显影。 祝你好运！ |
5楼2010-12-06 20:00:34
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