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【求助】求助各位前辈关于单晶硅片高温处理后的腐蚀问题
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msewang
新虫
(初入文坛)
应助: 0
(幼儿园)
金币: 151
帖子: 12
在线: 10.5小时
虫号: 1097501
[交流]
【求助】求助各位前辈关于单晶硅片高温处理后的腐蚀问题
求助各位前辈,单晶硅高温约1100度处理后,用HF:HNO3=1:3腐蚀液腐蚀,反应特别剧烈,表面很容易被氧化,加冰醋酸作为缓冲剂也不行,所以想请教各位有什么好的经验吗?谢谢了。。(另我是做单晶硅提纯方向)
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1楼
2010-11-25 11:00:11
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sunm1980
木虫
(正式写手)
应助: 7
(幼儿园)
金币: 2399.7
帖子: 654
在线: 168.7小时
虫号: 863186
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
回楼上的朋友,Si的晶圆你用FTIR测下就知道表面存在SiO2*mH2O自然氧化层,这个是不可避免的,不是说不会氧化
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13楼
2012-06-22 13:20:20
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