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msewang

新虫 (初入文坛)


[交流] 【求助】求助各位前辈关于单晶硅片高温处理后的腐蚀问题

求助各位前辈,单晶硅高温约1100度处理后,用HF:HNO3=1:3腐蚀液腐蚀,反应特别剧烈,表面很容易被氧化,加冰醋酸作为缓冲剂也不行,所以想请教各位有什么好的经验吗?谢谢了。。(另我是做单晶硅提纯方向)
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sunm1980

木虫 (正式写手)



小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
回楼上的朋友,Si的晶圆你用FTIR测下就知道表面存在SiO2*mH2O自然氧化层,这个是不可避免的,不是说不会氧化
13楼2012-06-22 13:20:20
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