应《网络安全法》要求，自2017年10月1日起，未进行实名认证将不得使用互联网跟帖服务。为保障您的帐号能够正常使用，请尽快对帐号进行手机号验证，感谢您的理解与支持！

24小时热门版块排行榜    

CyRhmU.jpeg
小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 【求助】以打印的胶片做曝光用的掩膜时会出现很多问题，该如何解决呢？
51/1返回列表
查看: 1244  |  回复: 4
只看楼主@他人 存档 新回复提醒 (忽略) 收藏    在APP中查看
当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖

wangzi226

禁虫 (小有名气)
本帖内容被屏蔽

» 猜你喜欢

» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:

» 抢金币啦！回帖就可以得到:

查看全部散金贴
1楼2010-11-18 21:02:48
已阅   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

simonfm

木虫 (正式写手)
★
wangzi226(金币+1):谢谢参与
我想最简单的方法应该是换掩模板，换质量好一点的。如果光刻图形尺寸较大，用中性笔将掩模板上个别地方涂黑也可以。
赞一下(1人) 回复此楼
5楼2011-01-28 16:40:04
 已阅   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖
查看全部 5 个回答

wangzi226

禁虫 (小有名气)
本帖内容被屏蔽
2楼2010-11-19 14:15:25
 已阅   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

quanbaogang

木虫 (正式写手)
★ ★ ★
wangzi226(金币+1):谢谢参与
xjajx(金币+2): 鼓励交流 2011-01-25 17:18:11
如果用SU-8，可以适当降低曝光时间，（因为MICROCHEM公司给的参数一般都比实际的大，所以也不会有太大问题。）这样就可以让那些小点点的密度减少了。
如果用的是其他负胶而且一般是薄胶，还可以用氧等离子体来轰击一定时间。具体时间长短应该视使用的设备和工艺条件而定。
赞一下(2人) 回复此楼
3楼2010-11-26 23:55:19
 已阅   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖
查看全部 5 个回答
信息提示
关闭
请填处理意见
关闭