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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 【求助】以打印的胶片做曝光用的掩膜时会出现很多问题，该如何解决呢？
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wangzi226

禁虫 (小有名气)
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1楼 2010-11-18 21:02:48
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simonfm

木虫 (正式写手)
★
wangzi226(金币+1):谢谢参与
我想最简单的方法应该是换掩模板，换质量好一点的。如果光刻图形尺寸较大，用中性笔将掩模板上个别地方涂黑也可以。
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5楼2011-01-28 16:40:04
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wangzi226

禁虫 (小有名气)
本帖内容被屏蔽
2楼2010-11-19 14:15:25
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quanbaogang

木虫 (正式写手)
★ ★ ★
wangzi226(金币+1):谢谢参与
xjajx(金币+2): 鼓励交流 2011-01-25 17:18:11
如果用SU-8，可以适当降低曝光时间，（因为MICROCHEM公司给的参数一般都比实际的大，所以也不会有太大问题。）这样就可以让那些小点点的密度减少了。
如果用的是其他负胶而且一般是薄胶，还可以用氧等离子体来轰击一定时间。具体时间长短应该视使用的设备和工艺条件而定。
赞一下(2人) 回复此楼
3楼2010-11-26 23:55:19
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