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【求助】以打印的胶片做曝光用的掩膜时会出现很多问题,该如何解决呢?
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wangzi226
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2010-11-18 21:02:48
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simonfm
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虫号: 1181936
★
wangzi226(金币
+1
):谢谢参与
我想最简单的方法应该是换掩模板,换质量好一点的。如果光刻图形尺寸较大,用中性笔将掩模板上个别地方涂黑也可以。
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5楼
2011-01-28 16:40:04
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wangzi226
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2楼
2010-11-19 14:15:25
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quanbaogang
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wangzi226(金币
+1
):谢谢参与
xjajx(金币+2): 鼓励交流 2011-01-25 17:18:11
如果用SU-8,可以适当降低曝光时间,(因为MICROCHEM公司给的参数一般都比实际的大,所以也不会有太大问题。)这样就可以让那些小点点的密度减少了。
如果用的是其他负胶而且一般是薄胶,还可以用氧等离子体来轰击一定时间。具体时间长短应该视使用的设备和工艺条件而定。
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3楼
2010-11-26 23:55:19
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