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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 无机非金属 » 前沿热点 » 【求助】求助！！真空镀膜条件控制
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seven474

新虫 (初入文坛)

[交流] 【求助】求助！！真空镀膜条件控制 已有5人参与

本人最近做真空镀膜，但是对于不同待镀金属的最佳条件不是很清楚，主要就是温度与真空度，希望谁能帮我解答，万分感激。我需要镀的金属主要有Ti，Au，Cu。另外，对于镀膜的厚度主要由哪些因素决定，添加金属的量与镀膜时间是怎么决定膜的厚度，有没有计算的公式？
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1楼 2010-11-16 22:56:50
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stuart2296

新虫 (初入文坛)
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enquan123(金币+1): 鼓励新虫，多多回帖，积极参与论坛讨论~~ 2011-05-01 09:41:13
电流和时间两个因素是最主要的，厚度的把握可以靠观察试样表面颜色的变化来确定。
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2楼2011-04-25 17:07:14
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Tommy8726

银虫 (小有名气)
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enquan123(金币+1): 鼓励交流~~ 2011-05-01 09:41:54
时间，功率，真空度
这三个参数很重要
膜的厚度，主要是跟功率和时间有关吧
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3楼2011-04-30 23:29:28
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黄瓜一样冰凉

金虫 (小有名气)
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enquan123(金币+1): 鼓励交流，多谢积极应助 2011-05-01 21:42:40
最佳镀膜参数必须要自己做。仪器不一样。
真空度当然越高越好。温度的话看你自己对膜生长方式，表面形貌的要求了。一般室温到几百度的样子吧。
膜厚=成膜速率X时间。成膜速率主要由工作气压，工作功率决定。具体到多大工作气压，工作功率的成膜速率是多少，这个要自己做的。
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4楼2011-05-01 13:02:02
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虫儿飞呀

金虫 (小有名气)
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enquan123(金币+1): 鼓励交流，欢迎积极参与讨论 2011-05-01 21:43:10
不知道你用的镀膜系统，我用的是射频磁控溅射镀膜系统，影响因素很多，主要有溅射功率密度、溅射压强、衬底温度、本地真空度、溅射时间、靶基距和衬底的选取等，这些数据的确定还是需要在试验中不断地摸索
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梦想成就未来
5楼2011-05-01 16:34:18
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taocc2007
6楼2012-07-23 08:32:21
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