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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 【求助】请问在用电子束刻蚀做lift-off工艺时如何清洗毛刺
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cherub382

木虫 (小有名气)

[交流] 【求助】请问在用电子束刻蚀做lift-off工艺时如何清洗毛刺 已有3人参与

在做电子束刻蚀做lift-off工艺的时候，制备出来的纳米线条边缘总是会有一些小小的毛刺，请问改用什么溶液清洗掉这些毛刺呢？尤其是对于金结构的纳米线条，多谢啦！
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1楼 2010-10-28 22:42:33
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排骨不会飞

新虫 (初入文坛)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
楼主，您好！我最近在学习电子束曝光做lift-off工艺时总会遇到去胶不完全的现象，您可以分享一下您的制作工艺提供一些建议吗？我主要是做纳米线的霍尔器件的。
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4楼2016-06-22 22:02:42
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cherub382

木虫 (小有名气)
这个跟dose没有关系吧，在200nm线宽以上，合适的dose确实看不明显，但是如果放大到50，000以上，还是能够看到线条边缘的毛刺的，而做100nm以下的时候，这个就更加明显了，我听说一般有成熟工艺的小组都要经过一次后处理的。
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3楼2010-10-29 00:52:23
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