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yangfengfan888

银虫 (小有名气)

[交流] 【求助】磁控溅射镀膜的问题——薄膜的电阻很大是什么原因造成的? 已有1人参与

各位大侠:
我采用磁控溅射镀金属膜,厚度200-500nm,薄膜的电阻很大,万用表量约10M欧/1cm,这是什么原因造成的呢?
本地真空到10-5Pa。
最新结果:
很可能是漏气了,
1、我发现用Ar气反复清洗管道,并抽真空3小时,做的Cu膜电阻小多了,原来同样的实验条件,溅射2h,电阻为2k欧/1cm,这次溅射一个小时是200欧。
但是Cu膜的颜色为黑色,不是金黄色?是不是还是有点氧化????
2、另外发现关闭气瓶(管道内有氩气,打开减压阀),发现氧气压力示数变小好几兆帕,肯定是这段管道有点漏气,可能是减压阀坏了,进一步检查中。

[ Last edited by yangfengfan888 on 2010-3-13 at 12:04 ]
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yjyang07

木虫 (著名写手)

引用回帖:
Originally posted by yangfengfan888 at 2010-02-18 16:37:54:
各位大侠:
我采用磁控溅射镀金属膜,厚度200-500nm,薄膜的电阻很大,万用表量约10M欧/1cm,这是什么原因造成的呢?
本地真空到10-5Pa。

我也出现了类似的情况 不知道怎么回事
天行健,君子以自强不息~~~~~
9楼2010-03-05 16:00:52
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ppttcug

木虫 (小有名气)

甲虫

★ ★ ★
dawnlight(金币+3):3x 2010-02-18 19:22
yangfengfan888(金币+5): 2010-02-19 09:15
1:氧化 有的金属很活泼,特别是磁控溅射能量大,更容易反应
2:非晶化。衬底温度过低,快速凝聚会发生不能结晶的问题,形成所谓金属玻璃。
3:薄膜/衬底附着差,同时衬底温度高,薄膜会形成岛状分布,形成的薄膜不连续。
2楼2010-02-18 17:32:33
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yangfengfan888

银虫 (小有名气)

引用回帖:
Originally posted by ppttcug at 2010-02-18 17:32:33:
1:氧化 有的金属很活泼,特别是磁控溅射能量大,更容易反应
2:非晶化。衬底温度过低,快速凝聚会发生不能结晶的问题,形成所谓金属玻璃。
3:薄膜/衬底附着差,同时衬底温度高,薄膜会形成岛状分布,形成的薄膜 ...

楼主说的很有道理。
我觉得氧化的可能性很大,但是我不知道设备的问题出在哪里。
我前段时间做的薄膜(成分类似),电阻比现在小三个数量级。
真空度可以很低,难道是氧气管道漏气?但是我把气瓶关闭,一直抽到气瓶压强为0啊,只是气体流量计一直没为0,(我放到30SCCM,气瓶压力为0,时,流量计为10SCCM,一直不为0.)可实验时流量计是关闭,并且还有一个阀门也是关闭的,这种可能性也很小。
不知道为什么?
3楼2010-02-19 09:25:01
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cord

铁杆木虫 (著名写手)


★ ★
小木虫:)(金币+2):3q 2010-02-20 22:15
第三点不对,LZ都说了厚度200-500nm了,形成岛状分布的话,肉眼很容易看出来的。
LZ用什么气体溅射的?
4楼2010-02-19 23:50:10
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