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xys572

金虫 (小有名气)

[交流] 【求助】AFM基片对表面粗糙度的要求如何

今天测了一下用的基片 Si(111)
粗糙度显示Rq=0.142 nm Ra=0.113 nm Rmax=1.19 nm
这样的条件算怎么样的呢
由于需要在基片上长出细小颗粒 2nm 左右 这样的表面是不是不太合适?
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明光

木虫 (著名写手)


xys572(金币+1,VIP+0):谢谢 9-18 09:05
Ra=0.113 nm 算是比较平整的了,一般的AFM扫描是没有问题的
心平气和,谦虚谨慎,创新上进!
2楼2009-09-17 16:02:14
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dingyanhuai

木虫 (小有名气)


xys572(金币+1,VIP+0):谢谢 9-18 09:05
应该是没有问题,只需实验前后做个扫描对比一下就行了
3楼2009-09-18 07:56:47
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migsmigs

捐助贵宾 (正式写手)


xys572(金币+1,VIP+0):谢谢 9-19 09:23
应该没有问题。
Si片表面的起伏情况和颗粒薄膜的起伏情况明显不同,很容易区分。
但是,对2nm的颗粒成像要求AFM有较高的分辨率。
祝你得到好的结果。
4楼2009-09-19 09:02:30
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kychina

木虫 (小有名气)


小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖交流
Si 片很平整了,如果你还想要更平整的可以用云母试试,能在Si上长的在云母上一般也能长出来
5楼2009-09-24 10:05:37
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