Originally posted by cjw796 at 2009-9-16 17:05:
这个说法是假设没有自偏压的情况，当然靶的基片之间是不对称的，所以有可能溅射的不会被完全反溅射，但肯定可以保证溅射产率会很低。

既然大家还不明白自偏压的产生和物理意义，我就详细来说说。
标准的射频电 ...

Originally posted by yjyang07 at 2009-9-17 08:16:
呵呵 好像是“再溅射”

Originally posted by zdliang83 at 2009-9-18 20:55:
repsputtering  也就是经常说到的二次溅射  在溅射的过程中基片会受到阴离子的轰击将沉积的东西被重新击打出来 从而造成薄膜的不均匀性和沉积速率的降低 这就是有的设备采用偏轴的一个原因

Originally posted by cjw796 at 2009-9-19 01:28:
what does "偏轴" mean ?

Originally posted by zdliang83 at 2009-9-19 12:21:

所谓偏轴就是使基片的法线方向和电场的方向偏离一定的角度溅射。。

Originally posted by wushujie at 2009-09-16 11:16:03:
我认为是交流电源，电流电压不同步造成的，也就是电流电压不是同一个相位！

Originally posted by cjw796 at 2009-09-20 02:28:36:
可是偏轴之后溅射速率肯定会降低吧，而且薄膜的均匀性怎么保证呢？