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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 专业学科区 » 物理 » 凝聚态物理 » 【求助】磁控溅射自偏压问题
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moxming

金虫 (小有名气)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
引用回帖:
Originally posted by cjw796 at 2009-9-16 17:05:
这个说法是假设没有自偏压的情况，当然靶的基片之间是不对称的，所以有可能溅射的不会被完全反溅射，但肯定可以保证溅射产率会很低。

既然大家还不明白自偏压的产生和物理意义，我就详细来说说。
标准的射频电 ...

嗯嗯，很不错！我再思考思考哈，谢谢您！
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11楼2009-09-17 08:47:57
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cjw796

金虫 (小有名气)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
再溅射“repsputtering”这个名词在ion beam milling中听说过，就是说被刻蚀出来的原子又被溅射到样品的其他部分，在普通溅射中没有听说过，或许你是说反溅射吧。
引用回帖:
Originally posted by yjyang07 at 2009-9-17 08:16:
呵呵 好像是“再溅射”

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12楼2009-09-17 16:59:09
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在天涯

铁杆木虫 (知名作家)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
可能是交流电流于电压不同步应起的仅供参考
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13楼2009-09-17 19:20:00
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zdliang83

木虫 (小有名气)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
repsputtering  也就是经常说到的二次溅射  在溅射的过程中基片会受到阴离子的轰击将沉积的东西被重新击打出来 从而造成薄膜的不均匀性和沉积速率的降低 这就是有的设备采用偏轴的一个原因
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14楼2009-09-18 20:55:12
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cjw796

金虫 (小有名气)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
what does "偏轴" mean ?
引用回帖:
Originally posted by zdliang83 at 2009-9-18 20:55:
repsputtering  也就是经常说到的二次溅射  在溅射的过程中基片会受到阴离子的轰击将沉积的东西被重新击打出来 从而造成薄膜的不均匀性和沉积速率的降低 这就是有的设备采用偏轴的一个原因

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15楼2009-09-19 01:28:46
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zdliang83

木虫 (小有名气)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
引用回帖:
Originally posted by cjw796 at 2009-9-19 01:28:
what does "偏轴" mean ?

所谓偏轴就是使基片的法线方向和电场的方向偏离一定的角度溅射。。
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16楼2009-09-19 12:21:52
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cjw796

金虫 (小有名气)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
可是偏轴之后溅射速率肯定会降低吧，而且薄膜的均匀性怎么保证呢？
引用回帖:
Originally posted by zdliang83 at 2009-9-19 12:21:

所谓偏轴就是使基片的法线方向和电场的方向偏离一定的角度溅射。。

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17楼2009-09-20 02:28:36
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lianac

木虫 (小有名气)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
引用回帖:
Originally posted by wushujie at 2009-09-16 11:16:03:
我认为是交流电源，电流电压不同步造成的，也就是电流电压不是同一个相位！

说的不错，我听一个搞溅射的专家也是这么说的、
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18楼2010-01-30 14:03:23
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yjyang07

木虫 (著名写手)
引用回帖:
Originally posted by cjw796 at 2009-09-20 02:28:36:
可是偏轴之后溅射速率肯定会降低吧，而且薄膜的均匀性怎么保证呢？


均匀性还是可以保证的  没有问题
你可以试试
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天行健，君子以自强不息～～～～～
19楼2010-01-30 16:44:50
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