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yjyang07木虫 (著名写手)
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[交流]
【求助】磁控溅射自偏压问题
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大家似乎对磁控溅射自偏压问题不是很care 请教大家：他的物理意义是什么？是交流的还是直流的？做实验的时候发现自偏压在开始溅射的时候较大，一会就变小了，为什么？？ |
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yjyang07
木虫 (著名写手)
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- 专业: 凝聚态物性 II ：电子结构
4楼2009-09-16 08:18:59
2楼2009-09-15 21:13:21
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小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
zt970831(金币+3):感谢您的交流
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这个说法似乎有点问题，根据我的理解，自偏压是由于电子和Ar+的移动速度不一致而产生的，同样，只有产生了自偏压，溅射才能发生，否则设想你加一个正电压，又加一个负电压，材料被溅射，然后又被反溅射，最后什么也没有。所以自偏压就是在RF电压的基础上施加的一个偏置电压，假如你的RF是从-300V到300V，加一个200V的偏压之后就是从-100V到500V。自偏压当然是直流了。 这一点楼上说得没错，自偏压和靶材，氩氧比，温度，以及工作压力有关，是一个无法单独调节的量。 至于你的自偏压随着溅射的改变而改变，这可能是溅射过程中一些其他参数不稳定造成的。 [ Last edited by cjw796 on 2009-9-15 at 23:04 ] |
3楼2009-09-15 23:01:55
5楼2009-09-16 09:28:36