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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 专业学科区 » 物理 » 凝聚态物理 » 【求助】如何去除硅表面的氧化层？
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zhangletao1986

金虫 (小有名气)

[交流] 【求助】如何去除硅表面的氧化层？

想在硅片上做一层氧化物，需要去除表面的氧化层，只知道用HF酸，但具体的腐蚀时间和浓度不太清楚。
请高手赐教。
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1楼 2009-05-08 21:59:36
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huyuchan

★ ★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
小木虫:)(金币+1,VIP+0):3x 10-23 21:03
用离子枪进行剥离就完全可以去掉的
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7楼2009-06-10 20:09:14
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查看全部 14 个回答

zjuer

至尊木虫 (著名写手)
★ ★ ★
zhangletao1986(金币+3,VIP+0):太感谢了，兄弟能把具体的过程和我说一下吗？事前的氨水盐酸是如何进行处理的？ 5-9 10:16
以前我们好像是HF：H2O体积比1：5～1：8，15～30Sec左右，能得到很好的硅氢表面。当然事前做过氨水、盐酸的处理
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2楼2009-05-08 22:17:05
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zjuer

至尊木虫 (著名写手)
★ ★ ★
ddx-k(金币+3,VIP+0):感谢应助。 5-9 15:03
用1＃液在80度加热15min
用2＃液在80度加热15min
用去离子水冲洗，在HF溶液中浸泡30Sec，取出吹干。

1＃  氨水：H2O2：去离子水   1：1：5～7
2＃  HCL：H2O2：去离子水   1：1：5～7
HF溶液  HF：去离子水  1：8

[ Last edited by zjuer on 2009-5-9 at 14:40 ]
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3楼2009-05-09 14:10:50
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ange8962559

金虫 (著名写手)
★
小木虫:)(金币+1,VIP+0):3x 10-23 21:02
浓硫酸:30%的过氧化氢按3：1中煮沸
去离子水清洗
5%的HF酸浸泡
去离子水清洗
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成人不自在自在不成人
4楼2009-05-09 19:33:56
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