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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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zhangletao1986

金虫 (小有名气)

[交流] 【求助】如何去除硅表面的氧化层?

想在硅片上做一层氧化物,需要去除表面的氧化层,只知道用HF酸,但具体的腐蚀时间和浓度不太清楚。
请高手赐教。
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lasercust

金虫 (小有名气)


小木虫:)(金币+1,VIP+0):3x 10-23 21:02
利用激光辐照即可去除
6楼2009-06-07 10:32:38
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查看全部 14 个回答

zjuer

至尊木虫 (著名写手)

★ ★ ★
zhangletao1986(金币+3,VIP+0):太感谢了,兄弟能把具体的过程和我说一下吗?事前的氨水盐酸是如何进行处理的? 5-9 10:16
以前我们好像是HF:H2O体积比1:5~1:8,15~30Sec左右,能得到很好的硅氢表面。当然事前做过氨水、盐酸的处理
2楼2009-05-08 22:17:05
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zjuer

至尊木虫 (著名写手)

★ ★ ★
ddx-k(金币+3,VIP+0):感谢应助。 5-9 15:03
用1#液在80度加热15min
用2#液在80度加热15min
用去离子水冲洗,在HF溶液中浸泡30Sec,取出吹干。

1#  氨水:H2O2:去离子水   1:1:5~7
2#  HCL:H2O2:去离子水   1:1:5~7
HF溶液  HF:去离子水  1:8

[ Last edited by zjuer on 2009-5-9 at 14:40 ]
3楼2009-05-09 14:10:50
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ange8962559

金虫 (著名写手)


小木虫:)(金币+1,VIP+0):3x 10-23 21:02
浓硫酸:30%的过氧化氢按3:1中煮沸
去离子水清洗
5%的HF酸浸泡
去离子水清洗
成人不自在自在不成人
4楼2009-05-09 19:33:56
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