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zilongchn

木虫 (正式写手)

[交流] 除去无机物中的SiO2问题

貌似现在可以用HF or NaOH,KOH等

但是,使用HF,NaOH,KOH等的条件是怎么样的呢,浓度和温度
需要搅拌吗,我的材料里面还有氧化锰,不知道跟HF反应吗

谢谢了
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zilongchn

木虫 (正式写手)

谢谢楼上的了

我的体系含有SiO2,Co3O4,MnO2,Mn3O4,NiO2等一些氧化物,我想除去SiO2
不知道可以用HF吗
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5楼2009-05-02 23:06:57
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铈锆

铁杆木虫 (正式写手)

我最近也有做含锰的样,不知道你做的是什么材料,对SiO2的要求是多少.
2楼2009-05-02 08:38:20
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WG222

木虫 (正式写手)

你的材料有哪些物种都没说清啊...
3楼2009-05-02 13:56:52
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珠帘蜂

木虫 (小有名气)


hr5898(金币+1,VIP+0):谢谢应助! 5-3 10:01
我做微加工实验的时候就是用HF去SiO2绝缘层的,HF浓度为10%,常温下泡2min就能去掉。暂时发现HF常温条件下不能腐蚀有机光刻胶,Cr、Au。不知对你有没有帮助。
知识就是力量,热爱学习。
4楼2009-05-02 15:25:51
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