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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 旋涂多层光刻胶的技巧和设备
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babyoflion

金虫 (著名写手)

[交流] 旋涂多层光刻胶的技巧和设备

各位虫友，比如我想用薄胶经过多次旋涂获得比较厚的胶的时候？需要注意哪些问题呢？ 有没有什么指导性的技术参数或者有专门的设备么?  静态滴胶和动态滴胶哪个更合适？
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1楼 2018-12-05 08:40:15
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hero_hzx

新虫 (初入文坛)
给你个参考，一般520cst左右的dnq光刻胶，第一次上胶烘焙时间110° C，80 s和第二次115° C 180 s

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23楼2018-12-18 06:09:44
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chmzh11235楼
2018-12-05 09:16   回复  
babyoflion(金币+1): 谢谢参与
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伽鲁特3楼
2018-12-05 08:58   回复  
babyoflion(金币+1): 谢谢参与
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QQ26681749032楼
2018-12-05 08:52   回复  
babyoflion(金币+1): 谢谢参与
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