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babyoflion

金虫 (著名写手)

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[交流] 旋涂多层光刻胶的技巧和设备

各位虫友，比如我想用薄胶经过多次旋涂获得比较厚的胶的时候？需要注意哪些问题呢？有没有什么指导性的技术参数或者有专门的设备么? 静态滴胶和动态滴胶哪个更合适？

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1楼 2018-12-05 08:40:15

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gyxzby

铜虫 (小有名气)

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引用回帖:

16楼: Originally posted by babyoflion at 2018-12-06 13:46:10
谢谢回复，现在我试过了，烘烤后静态滴胶的边缘都会出现溶解的痕迹，动态滴胶呢，在界面上的铺展又不是特别好
产业里或者有标准的多层胶工艺么...

能说一下你的光刻胶型号，粘度么，还有你使用的涂胶机台型号，和需要的光刻胶厚度是多少呢？这样才更好帮你分析一些。一般产业里有这种技术我知道的也只有双层光刻胶涂覆，用于特殊Liftoff工艺，也是涂完烘烤在进行旋涂的方法做的。
表面铺展是不会好，会有一些水波纹的情况出现，因为毕竟是在光刻胶表面在涂光刻胶，两者之间的表面张力，摩擦力都会跟你在Si表面不一样。
你有没有试过把光刻胶溶剂去除一些使光刻胶粘度更大一些的方法呢？