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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料综合 » 材料物理 » 求解答磁控溅射偏压问题
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sunshine*昱

新虫 (正式写手)
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求解答磁控溅射偏压问题
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求大神指导   用磁控溅射生长薄膜时，衬底偏压和射频偏压是怎么加的？二者区别是什么呀？？

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1楼 2018-07-07 13:06:43
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lywzd16

铁杆木虫 (著名写手)
★
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引用回帖:
43楼: Originally posted by sunshine*昱 at 2018-07-08 13:07:53
那怎么来控制这个偏压的大小呢？
...

一般没法去特意控制自偏压，放电过程中是多少就算多少。受放电装置参数、工艺参数的影响

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46楼2018-07-09 00:43:13
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yffs19712楼
2018-07-07 13:06   回复  
sunshine*昱(金币+1): 谢谢参与
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hdchina20103楼
2018-07-07 13:06   回复  
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wxiaona4楼
2018-07-07 13:07   回复  
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littlemouse5楼
2018-07-07 13:07   回复  
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137201946036楼
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zl5105537楼
2018-07-07 13:08   回复  
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11792155918楼
2018-07-07 13:09   回复  
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阿达丶9楼
2018-07-07 13:10   回复  
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zyh401410楼
2018-07-07 13:11   回复  
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cherry_52011楼
2018-07-07 13:12   回复  
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panyuk12楼
2018-07-07 13:15   回复  
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pandongzi13楼
2018-07-07 13:17   回复  
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chenrk-buct14楼
2018-07-07 13:18   回复  
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