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liangwu5

铜虫 (小有名气)

氢氟酸浸泡,用酒精超声、接着再用丙酮超声清洗。就可以了
11楼2009-04-01 23:37:13
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dragonchen

金虫 (小有名气)


mqx_zm(金币+1,VIP+0):3kx 7-28 14:31
一般的清洗过程:1.用洗涤液清洗,然后用蒸馏水超声15min,冲洗几次,烘干,去除硅片表面附着的灰尘;
2.用丙酮超声10min,去除硅片表面附着的有机物;
3.用酒精清洗几次,丙酮易溶于酒精,去除丙酮;
4.用蒸馏水冲洗多次,然后将硅片烘干即可。
我以前镀膜就这么做的,效果还不错,你可以试试看。
12楼2009-04-02 08:31:47
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yonay

金虫 (小有名气)


mqx_zm(金币+1,VIP+0):3kx 4-14 22:41
一号液:氨水:双氧水:去离子水=1:2:7
二号液:盐酸:双氧水:去离子水=1:1:5
我一直用的是这样的配比。
氢氟酸建议:百分十比例
13楼2009-04-02 10:12:35
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zmandzl

银虫 (正式写手)

1.丙酮洗涤可以除去有机物;
2.盐酸:双氧水:去离子水除去一般氧化物
3.氨水:双氧水:去离子水对硅片有损伤
14楼2009-07-27 13:03:45
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15楼2009-07-27 13:09:17
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kevlar0223

金虫 (著名写手)

★ ★ ★ ★
mqx_zm(金币+4,VIP+0):3kx 7-28 14:31
硅片清洗,按道理说,应该是很严格的。

国内的一般实验室的净化条件是不够的。

硅片一般式丙酮,盐酸:双氧水:去离子水,然后去离子水洗涤多次。

洗涤后的硅片要用氮气吹干,这才算标准。
从大处着眼,从小处着手
16楼2009-07-27 21:58:44
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lbxin986

铜虫 (初入文坛)

带有二氧化硅的硅片不能用氢氟酸
SiO2(s) + 4 HF(aq) → SiF4(aq) + 2 H2O(l)
纯硅片是用氢氟酸清洗,腐蚀掉上面的一薄层二氧化硅
17楼2009-07-29 09:49:41
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