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liqianliwi

木虫 (职业作家)

应助: 18 (小学生)
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性别: GG
专业: 核技术及其应用

[求助] 磁控溅射法制备ZnO薄膜的过程中通入氢气有哪些需要注意的？已有1人参与

如题：利用磁控溅射法制备ZnO薄膜，靶材是ZnO靶，基底温度在300~500度，通入两路气体：一路高纯氩，一路氢氩混合气（氢气10%）。

类似的薄膜制备实验有虫友做过吗，主要是在磁控溅射镀膜中引入氢气？

整个镀膜过程有哪些需要注意的？

怎样提高安全性？

金币很多，请踊跃解答，谢谢！！！

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薄膜制备与特性

磁控溅射镀膜工艺

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我不懂什么叫坚持，全靠死撑！

1楼 2018-03-17 21:38:12

已阅回复此楼关注TA 给TA发消息送TA红花 TA的回帖

野人禾禾

金虫 (正式写手)

应助: 62 (初中生)
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性别: GG
专业: 其他无机非金属材料

【答案】应助回帖

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感谢参与，应助指数 +1
liqianliwi: 金币+50, ★★★★★最佳答案 2018-03-19 12:44:32

利用磁控溅射法通，氢氩混合气（氢气10%）。
安全性方面：
1. 真空腔内，由于工艺过程中气压也就在mTorr范围内，气压很低，不存在特别的安全隐患
2. 真空腔外，由于氢气无色无味，不容易察觉。气瓶、通气管路要保证密封（检漏）；排气口附近通风一定要好或将废气引出实验室外，另附近也不要有明火明电的暴露

工艺方面：
1. 镀膜前、后都尽量将真空度抽的低一点
一方面排除氧的影响，另一方面现有的真空抽气系统对氢气小分子都比较头疼，抽气速率相对慢很多。
2. 工艺过程中，由于H2的抽速降低，可能腔体内氢气会堆积。多关注气压和通气量的变化（看你气压控制是upstream还是downstream模式），来控制工艺的一致性。

以上，请参考。