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科研之塔

新虫 (小有名气)

[交流] 请问像氮化硅这种不导电的材料已有5人参与

想镀百纳米的膜,有没有什么比较快的方法。磁控溅射射频法的话时间太长了,得三个小时,而且时间长了可能会伤设备

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科研之塔

新虫 (小有名气)

我们的PECVD设备只能长二维材料

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2楼2018-01-31 18:00:49
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daweidejob

新虫 (初入文坛)


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你镀膜的功用是什么?用中频磁控溅射Si加氮气很快,不知道性能能满足不

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3楼2018-01-31 18:31:14
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091820053

禁虫 (知名作家)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
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4楼2018-01-31 21:17:21
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091820053

禁虫 (知名作家)

本帖内容被屏蔽

5楼2018-01-31 21:17:35
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野人禾禾

金虫 (正式写手)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
硅靶中频或直流脉冲反应溅射,控制充氮气的比例,有个金属过渡态,沉积速率快而且膜性能好。
擅长薄膜材料工艺,欢迎交流captain0119
6楼2018-02-01 10:35:02
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


PECVD很快
7楼2018-02-01 13:04:15
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df1990

木虫 (小有名气)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
不会啊,我们的设备2分钟10纳米,是是不是你的磁场强度太弱了
生命是一场无限的蜕变
8楼2018-02-02 10:50:10
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