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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 学术讨论 » 光刻胶为何可以用氢氧化钠去除？
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小背包

铁杆木虫 (著名写手)

[求助] 光刻胶为何可以用氢氧化钠去除？已有2人参与

本人外行，请教如题问题。
百度了一下也没有查到光刻胶的具体成分属于哪一类？
谢谢！
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光刻

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初生牛犊
1楼2017-08-25 11:46:29
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小背包

铁杆木虫 (著名写手)
引用回帖:
2楼: Originally posted by peterflyer at 2017-08-25 14:03:29
具体原理可参考下面链接的文献中的一段话，该段话制成图片如附图所示，供楼主参考。
http://www.doc88.com/p-3495358113669.html

1.JPG
...

3-5%NaOH，50℃ 水溶液。什么原理？
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初生牛犊
3楼2017-08-25 19:02:36
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peterflyer

木虫之王 (文学泰斗)

peterflyer

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
具体原理可参考下面链接的文献中的一段话，该段话制成图片如附图所示，供楼主参考。
http://www.doc88.com/p-3495358113669.html
光刻胶为何可以用氢氧化钠去除？
1.JPG
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2楼2017-08-25 14:03:29
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peterflyer

木虫之王 (文学泰斗)

peterflyer
引用回帖:
3楼: Originally posted by 小背包 at 2017-08-25 19:02:36
3-5%NaOH，50℃ 水溶液。什么原理？...

根据前述的文献能否这样认为：光刻时光刻胶会使用氯气，从而在光刻胶中产生卤代烷反应生成氯化物，而氢氧化钠会使氯原子发生脱落，而剩下的有机物在温水和氢氧化钠的共同作用下被溶解然后就被冲洗掉了。
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4楼2017-08-25 20:57:42
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xiefeng123

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

NaOH碱性的，一般正性光刻胶曝光后在水溶液中会有羧酸生产，使光刻胶溶于碱性溶液。
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5楼2017-09-30 16:11:18
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