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siten

铜虫 (初入文坛)

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[交流] 关于PMMA的剥离问题

我用电子束曝光在“”PMMA上做的100nm线条，胶厚在500nm左右，
显影之后用电子束蒸发了10nmCr和100nm金，使用丙酮剥离，泡了3天了pmma还是没有反应

现在该怎么处理，是换剥离液成N,N-二甲基甲酰胺？还是加热丙酮或者加超声？

谢谢大家指导

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1楼2017-05-10 17:19:08

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siten

铜虫 (初入文坛)

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引用回帖:

3楼: Originally posted by yswyx at 2017-05-11 11:59:08
如果泡了3天PMMA都没反应，说明电子束光刻有问题。因为金属肯定爬坡了，把PMMA覆盖的很完整，没有任何缝隙能让丙酮进入去溶解PMMA。
也就是说你的PMMA光刻显影后，没有做出底切的形貌，而是大开口的。
你这个应该 ...

我重新做次光刻试试

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4楼2017-05-16 11:30:34

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如果泡了3天PMMA都没反应，说明电子束光刻有问题。因为金属肯定爬坡了，把PMMA覆盖的很完整，没有任何缝隙能让丙酮进入去溶解PMMA。
也就是说你的PMMA光刻显影后，没有做出底切的形貌，而是大开口的。
你这个应该找卖你胶的公司做技术支持，比如找研材微纳。
你做完光刻后，有没有做切片看剖面？前散射造成底切的结构有被显影出来没有？
从目前看，很可能是光刻出了问题，也可能是显影没显透。
一般还是需要做个切片先确定光刻后的结构形貌，来确定光刻结果是否符合做lift off的条件。

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3楼2017-05-11 11:59:08

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