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sundy2006

金虫 (小有名气)

405eV左右的峰可能是铵盐可以参考http://www.lasurface.com
11楼2009-01-16 16:25:00
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zhengbiju1833

金虫 (小有名气)

★ ★ ★ ★ ★
guohs2004(金币+5):谢谢帮忙分析! C和O确实有很明显背景峰; 样品制备后确实是保存于小瓶中几天后才测的,因为送样后测试员才排队帮忙测,我同时也做了纯金的基底,C,O,N均有背景信号,但N的背景峰似乎也是在399eV左右出现,且峰不是很明显,而不是在405eV. 你说405eV为氮气的吸附峰,请问能提供参考文献吗? 1-17 12:45
氧和碳必有吸附峰。你拟合的时候一定要把他俩弄出来。
405ev的N可能是吸附峰。我做xps时的氮峰就是吸附峰。
样品必须做完后马上做xps才能减少c,o,n的吸附峰的影响。
你做完的样品是否长期暴露在空气中。
12楼2009-01-17 08:58:07
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guohs2004

金虫 (小有名气)

引用回帖:
Originally posted by sundy2006 at 2009-1-16 16:25:
405eV左右的峰可能是铵盐可以参考http://www.lasurface.com

我查过这个网站,也查过http://srdata.nist.gov/xps/,但未发现你所说的这个信息,请问你能帮忙提供具体文献的出处吗,如期刊,年,卷,期,页?
13楼2009-01-17 12:47:48
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guohs2004

金虫 (小有名气)

继续求助: 增加一个问题,希望有高手帮忙回答!谢谢先!

在组装第一层后有S2p峰,证明第一层成功组装(表明Au-S键的形成)。但在第一层上再连接第二层后S2p峰却完全消失,请问这应该如何解释?我测了两批样都是这样的结果.
14楼2009-04-02 10:12:33
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