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hognmeng

金虫 (正式写手)

一般的,对于ITO镀膜而言,靶基距是会影响膜层的电导率的。其他条件不变情况下,靶基距越小,靶面磁场强度越强,溅射效率越高,但靶材粒子在玻璃表面碰撞越剧烈,表面粗糙度越差。另,平面ITO靶靶基距可调,旋转不能。思路较紊乱,不好意思

发自小木虫Android客户端
11楼2017-01-08 23:34:50
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hzcc

木虫 (正式写手)

靶间距越小,是否有利于提高薄膜与衬底的结合力?
12楼2020-09-24 20:51:22
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