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lasterr

捐助贵宾 (初入文坛)

[求助] 请问反应离子刻蚀能否在常压下进行? 已有1人参与

刻蚀材料:Si,刻蚀气体:NF3+O2+Cl2
请问RIE为什么必须在低压下进行?有研究机构在研究常压RIE,这种可行性有多大?
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义柳如烟

木虫 (小有名气)

请问楼主要刻出什么样的形貌呢?

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6楼2016-12-28 11:00:28
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15190052720

新虫 (正式写手)

我们只有常压等离子。常压蚀刻还没涉及到。

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2楼2016-12-20 13:44:17
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15190052720

新虫 (正式写手)

目前常压使用气体也就氧气,氩气,氮气。

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3楼2016-12-20 13:50:27
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lasterr

捐助贵宾 (初入文坛)

你们的等离子是用于半导体的吗

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4楼2016-12-20 19:39:23
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