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请问反应离子刻蚀能否在常压下进行? 已有1人参与
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刻蚀材料:Si,刻蚀气体:NF3+O2+Cl2 请问RIE为什么必须在低压下进行?有研究机构在研究常压RIE,这种可行性有多大? |
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6楼2016-12-28 11:00:28
15190052720
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2楼2016-12-20 13:44:17
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3楼2016-12-20 13:50:27
4楼2016-12-20 19:39:23













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