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civicli

银虫 (小有名气)

[求助] 循环伏安测试曲线铜离子还原峰与文献差异巨大! 已有6人参与

最近打算采用电化学沉积的方法在Mo表面镀一层铜,根据能斯特方程计算出25℃下,中性电解液中,20mM的Cu2+的还原电位是0.29V,可是我用CHI660电化学工作站进行循环伏安测试,参比电极为饱和甘汞电极,测试出的循环伏安曲线在0.29V附近根本就没有出现还原峰,我想知道到底问题处在了哪里?另外我想问一下,为什么我的还原电位是正的,氧化电位是负的?

循环伏安测试曲线铜离子还原峰与文献差异巨大!
Cu循环伏安.PNG
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sxguo

木虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
civicli: 金币+10, 有帮助, 多谢 2016-12-23 16:00:59
你先把仪器的设置改一下,把正电流改成在上面。在System Setup 栏目下面改。美国设置和IUPAC不一样。另外,从你的伏安曲线看,在电位高于-0.1V就有氧化反应发生。不清楚你用的溶液是什么,所以不好说。也许这个氧化反应影响了铜的还原电位。
8楼2016-10-27 14:21:42
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ftgpg23

金虫 (正式写手)

★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
低调小弟: 金币-5, 应助指数-1, 屏蔽内容, 违规存档, 下次注意,别再粘贴别人问题作为答案,谢谢。 2016-10-27 15:27:44
本帖内容被屏蔽

2楼2016-10-26 15:42:29
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Mr张弓长

金虫 (正式写手)

keepgoing,don’tsettle
3楼2016-10-26 15:47:44
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civicli

银虫 (小有名气)

引用回帖:
3楼: Originally posted by Mr张弓长 at 2016-10-26 15:47:44
可能跟你的扫描速度有关

我扫描速度是10mv/s
4楼2016-10-26 20:40:25
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