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kevin123581

金虫 (正式写手)

[交流] ITO和ZnO薄膜的方阻问题

最近自己尝试了ITO和ZnO的PLD 镀膜
ITO 透射能够达到80-85%以上, ZnO90%以上
但是方阻问题貌似比较大
ITO薄膜100nm左右测量出来方阻都在20千欧左右,
看别人论文上都是只有100左右的样子
我镀膜条件是500摄氏度, 只通氧气100sccm
是氧气过多造成的么?
氧化锌貌似方阻也差不多的样子,也是很高


谢谢
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minglight9

铁杆木虫 (著名写手)

工程师


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
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9楼: Originally posted by kevin123581 at 2016-07-30 14:47:45
请问下,这个10%是氧气占腔体体积的10%吗?
功率这个问题我确实也注意到了,功率大的时候黑得多,低的时候透射也高一些
就是低功率不大好控制,肉眼经常看不到羽辉,我再尝试下, 谢谢

对了,还有个问题请教下 ...

激光沉积的方式有点难做,没做过,一般都是磁控溅射的比较多,氧含量是指氩氧比。

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再牛逼的肖邦也弹不出老子的悲伤。
10楼2016-08-01 08:07:16
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xiangyunone

新虫 (小有名气)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
通氧气应该会降低薄膜的方块电阻吧  我做过AZO中通氧气 方块电阻比不通氧气时高很多。可能是因为氧空位少了
2楼2016-07-26 11:08:33
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kevin123581

金虫 (正式写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by xiangyunone at 2016-07-26 11:08:33
通氧气应该会降低薄膜的方块电阻吧  我做过AZO中通氧气 方块电阻比不通氧气时高很多。可能是因为氧空位少了

恩,我也这么猜想。但是不通氧薄膜的透射很低就是了,谢谢

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3楼2016-07-26 12:15:17
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再见理想35

木虫 (正式写手)


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3楼: Originally posted by kevin123581 at 2016-07-26 12:15:17
恩,我也这么猜想。但是不通氧薄膜的透射很低就是了,谢谢...

能做的85%,就不错了
4楼2016-07-28 08:22:45
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kevin123581

金虫 (正式写手)

引用回帖:
4楼: Originally posted by 再见理想35 at 2016-07-28 08:22:45
能做的85%,就不错了...

恩,谢谢。请教个问题,我看很多镀膜的时候都有通入Ar和O2,Ar的作用是什么呢,是为了让等离子羽辉发散角变大便于均匀镀膜还是有其他的功能考虑?
我因为设备原因是没有Ar的。

谢谢
5楼2016-07-28 13:27:00
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minglight9

铁杆木虫 (著名写手)

工程师

再牛逼的肖邦也弹不出老子的悲伤。
6楼2016-07-29 10:07:57
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kevin123581

金虫 (正式写手)

引用回帖:
6楼: Originally posted by minglight9 at 2016-07-29 10:07:57
氧多了。

恩,谢谢,确实氧气问题很大。
今天测量了下不通氧气的,方阻在150左右,虽然也还算大,但是远比20k的小多了;
不过不通氧气的话薄膜基本是黑色的就是了,透射10%的样子
7楼2016-07-29 14:37:59
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minglight9

铁杆木虫 (著名写手)

工程师

★ ★ ★ ★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
kevin123581: 金币+3 2016-07-30 14:47:58
引用回帖:
7楼: Originally posted by kevin123581 at 2016-07-29 14:37:59
恩,谢谢,确实氧气问题很大。
今天测量了下不通氧气的,方阻在150左右,虽然也还算大,但是远比20k的小多了;
不过不通氧气的话薄膜基本是黑色的就是了,透射10%的样子...

溅射功率不要那么大,通氧量不要超10%,如果还不行,就要换靶材了。

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再牛逼的肖邦也弹不出老子的悲伤。
8楼2016-07-30 14:20:07
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kevin123581

金虫 (正式写手)

引用回帖:
8楼: Originally posted by minglight9 at 2016-07-30 14:20:07
溅射功率不要那么大,通氧量不要超10%,如果还不行,就要换靶材了。
...

请问下,这个10%是氧气占腔体体积的10%吗?
功率这个问题我确实也注意到了,功率大的时候黑得多,低的时候透射也高一些
就是低功率不大好控制,肉眼经常看不到羽辉,我再尝试下, 谢谢

对了,还有个问题请教下,目前我用的激光沉积镀膜是没有通Ar的,只是在腔体抽成真空后,
在开始沉积的时候开始通入一定量氧气,玻璃基片有加热,沉积结束就把氧气停了,然后在真空中自然退火降温


对于我没有加Ar会有影响么? 因为我看其他的沉积方式都有用混合气体Ar+O2,但是他们的氩气要用来轰击靶材料
而激光沉积应该不用这个。所以想请教下


谢谢
9楼2016-07-30 14:47:45
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