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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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Eicky

金虫 (小有名气)

[求助] 单层MoS2晶体管里迁移率(mobility)计算区域为什么是线性区

Nature nanotechnolog发表的“Single-layer MoS2 transistors” (DOI: 10.1038/NNANO.2010.279)中,在计算场效应迁移率的时候,使用了下图第一段曲线的数据(图片在附件),并用了线性区的公式计算mobility,u=[dIds/dVbg] × [L/(WCiVds)],但是这一段不应该是饱和区域或者未达到阈值的区域吗?求教为何使用了线性区的公式,谢谢!

单层MoS2晶体管里迁移率(mobility)计算区域为什么是线性区
I-V curve.png
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xpengpengx

铜虫 (小有名气)

另外,你截出来的图输出曲线根本就没看到饱和区 所以算线性区更加合理

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5楼2016-07-23 16:27:39
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xpengpengx

铜虫 (小有名气)

电压Vds 加的是10mv 自然是线性区迁移率

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2楼2016-07-23 14:44:53
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Eicky

金虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by xpengpengx at 2016-07-23 14:44:53
电压Vds 加的是10mv 自然是线性区迁移率

能问一下为什么有些文章用线性区,有些用饱和区吗?我看大多小分子半导体都会用饱和区,MoS2用线性区,谢谢。另外,麻烦点一下应援,不然我不能给你发金币。

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3楼2016-07-23 15:49:16
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xpengpengx

铜虫 (小有名气)

这个没什么定论的,一般漏源电压很小如0.01V,器件还没达到饱和 所以通常通过取漏源电压Vds较小测得的转移曲线来计算线性迁移率;当Vds较大时(大于饱和电压),器件处于饱和状态,所以通过较大Vds 下测的转移来计算饱和迁移率  有些期刊会同时要求饱和和线性迁移率

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4楼2016-07-23 16:26:04
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