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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 想在二氧化锡外面蒸镀一层二氧化硅
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ielwang

金虫 (正式写手)
引用回帖:
10楼: Originally posted by 木石之缘 at 2016-05-11 09:01:17
PECVD，四氟化硅

谢谢啊，不过，我们实验室设备简陋，没有这个设备，这个方法行不通。
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11楼2016-05-11 09:17:46
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jedi-j

铁杆木虫 (职业作家)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
引用回帖:
10楼: Originally posted by 木石之缘 at 2016-05-11 09:01:17
PECVD，四氟化硅

PECVD 应该用 SiH4 silane 硅烷 较可行吧？
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12楼2016-05-11 10:40:08
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jedi-j

铁杆木虫 (职业作家)
重复，恕删～
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13楼2016-05-11 10:40:20
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jedi-j

铁杆木虫 (职业作家)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
作过溅镀，没作过蒸镀。温度是个问题。
溅镀可以用 SiO2靶，也可以用纯 Si靶通氧气。

如果只是要作保护层，喷涂后干燥也是个可能方法。
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14楼2016-05-11 10:43:16
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ielwang

金虫 (正式写手)
引用回帖:
14楼: Originally posted by jedi-j at 2016-05-11 10:43:16
作过溅镀，没作过蒸镀。温度是个问题。
溅镀可以用 SiO2靶，也可以用纯 Si靶通氧气。

如果只是要作保护层，喷涂后干燥也是个可能方法。

对，就是想做保护层，不知道看文献的有机硅氧烷高温蒸镀可行么。
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15楼2016-05-11 11:09:54
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