想在二氧化锡外面蒸镀一层二氧化硅 - 微米和纳米 - 第2页小木虫论坛-学术科研互动平台

11楼2016-05-11 09:17:46

jedi-j

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10楼: Originally posted by 木石之缘 at 2016-05-11 09:01:17
PECVD，四氟化硅

PECVD 应该用 SiH4 silane 硅烷较可行吧？

12楼2016-05-11 10:40:08

jedi-j

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重复，恕删～

13楼2016-05-11 10:40:20

jedi-j

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作过溅镀，没作过蒸镀。温度是个问题。
溅镀可以用 SiO2靶，也可以用纯 Si靶通氧气。

如果只是要作保护层，喷涂后干燥也是个可能方法。

14楼2016-05-11 10:43:16

ielwang

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14楼: Originally posted by jedi-j at 2016-05-11 10:43:16
作过溅镀，没作过蒸镀。温度是个问题。
溅镀可以用 SiO2靶，也可以用纯 Si靶通氧气。

如果只是要作保护层，喷涂后干燥也是个可能方法。

对，就是想做保护层，不知道看文献的有机硅氧烷高温蒸镀可行么。

15楼2016-05-11 11:09:54