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改善Ni薄膜在PI上面的附着力
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改善Ni薄膜在PI上面的附着力
已有2人参与
最近在PI(高温胶带)上面镀Ni,剥离倒是可以,但是附着力特别不好,一超声就会掉。加热啊,镀过渡层都尝试过,效果不理想,不知道各位大神,有没有好的办法改变Ni薄膜在PI上面的附着力呢?
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1楼
2016-05-02 22:49:49
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天国之王
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3楼
:
Originally posted by
yswyx
at 2016-05-04 12:19:35
在剥离工艺中,光刻和显影之后,用plasma打底膜,顺便把PI膜轰击一下,然后再蒸发或者溅射金属。
谢谢,之前用plasma处理过,十几瓦的功率,时间5min左右,但是效果不大,是不是处理的时间不够?如果再用离子源轰击的话,会不会温度过高?PI最高只能承受300度,光刻胶的承受温度也不能太高的,不然去胶也是问题,大神是否之前做过呢?求指点。
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5楼
2016-05-04 16:04:52
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2楼
2016-05-03 21:59:53
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yswyx
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2016-05-04 16:05:08
在剥离工艺中,光刻和显影之后,用plasma打底膜,顺便把PI膜轰击一下,然后再蒸发或者溅射金属。
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3楼
2016-05-04 12:19:35
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dorrnm
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3楼
:
Originally posted by
yswyx
at 2016-05-04 12:19:35
在剥离工艺中,光刻和显影之后,用plasma打底膜,顺便把PI膜轰击一下,然后再蒸发或者溅射金属。
请问有没有试过在peteos上涂覆盖PI,为增加粘附性,用plasma预处理peteos膜也行吗?
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4楼
2016-05-04 12:41:00
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