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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳器件 » 改善Ni薄膜在PI上面的附着力
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天国之王

新虫 (小有名气)

[求助] 改善Ni薄膜在PI上面的附着力 已有2人参与

最近在PI（高温胶带）上面镀Ni，剥离倒是可以，但是附着力特别不好，一超声就会掉。加热啊，镀过渡层都尝试过，效果不理想，不知道各位大神，有没有好的办法改变Ni薄膜在PI上面的附着力呢？
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薄膜制备与特性

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1楼 2016-05-02 22:49:49
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回帖支持 ( 显示支持度最高的前 50 名 )

天国之王

新虫 (小有名气)
引用回帖:
3楼: Originally posted by yswyx at 2016-05-04 12:19:35
在剥离工艺中，光刻和显影之后，用plasma打底膜，顺便把PI膜轰击一下，然后再蒸发或者溅射金属。

谢谢，之前用plasma处理过，十几瓦的功率，时间5min左右，但是效果不大，是不是处理的时间不够？如果再用离子源轰击的话，会不会温度过高？PI最高只能承受300度，光刻胶的承受温度也不能太高的，不然去胶也是问题，大神是否之前做过呢？求指点。
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5楼2016-05-04 16:04:52
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

引用回帖:
4楼: Originally posted by dorrnm at 2016-05-04 12:41:00
请问有没有试过在peteos上涂覆盖PI，为增加粘附性，用plasma预处理peteos膜也行吗?
...

没试过，plasma不是万能的，有些也不OK，比如玻璃衬底。而很多时候硅烷偶联剂先泡一下也是有效的。
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9楼2016-05-05 16:17:04
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普通回帖

wjx513513

铜虫 (小有名气)
等离子体处理

发自小木虫Android客户端
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2楼2016-05-03 21:59:53
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★
感谢参与，应助指数 +1
天国之王: 金币+2, ★有帮助 2016-05-04 16:05:08
在剥离工艺中，光刻和显影之后，用plasma打底膜，顺便把PI膜轰击一下，然后再蒸发或者溅射金属。
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3楼2016-05-04 12:19:35
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dorrnm

金虫 (小有名气)
引用回帖:
3楼: Originally posted by yswyx at 2016-05-04 12:19:35
在剥离工艺中，光刻和显影之后，用plasma打底膜，顺便把PI膜轰击一下，然后再蒸发或者溅射金属。

请问有没有试过在peteos上涂覆盖PI，为增加粘附性，用plasma预处理peteos膜也行吗?

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4楼2016-05-04 12:41:00
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天国之王

新虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by wjx513513 at 2016-05-03 21:59:53
等离子体处理

等离子体处理过，采用十几瓦的功率，时间5min左右，效果不大，不知道是不是时间不够？还是功率太小？
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6楼2016-05-04 16:06:53
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aaron5235

木虫 (正式写手)
想请教PI镀ni有什么用途呢？不鍍Cu?

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人生在世，俯仰之间，唯有追求卓越，但求尽其所能
7楼2016-05-05 11:02:38
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天国之王

新虫 (小有名气)
引用回帖:
7楼: Originally posted by aaron5235 at 2016-05-05 11:02:38
想请教PI镀ni有什么用途呢？不鍍Cu?

铜的附着力在PI上面很好么？
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8楼2016-05-05 11:07:31
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yswyx

专家顾问 (著名写手)
引用回帖:
5楼: Originally posted by 天国之王 at 2016-05-04 16:04:52
谢谢，之前用plasma处理过，十几瓦的功率，时间5min左右，但是效果不大，是不是处理的时间不够？如果再用离子源轰击的话，会不会温度过高？PI最高只能承受300度，光刻胶的承受温度也不能太高的，不然去胶也是问题， ...

这个功率并不大，不会有多高的温度。你用的是什么气体？氧？氩气？
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10楼2016-05-05 16:18:18
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