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天国之王

新虫 (小有名气)

[求助] 改善Ni薄膜在PI上面的附着力 已有2人参与

最近在PI(高温胶带)上面镀Ni,剥离倒是可以,但是附着力特别不好,一超声就会掉。加热啊,镀过渡层都尝试过,效果不理想,不知道各位大神,有没有好的办法改变Ni薄膜在PI上面的附着力呢?
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天国之王

新虫 (小有名气)

引用回帖:
3楼: Originally posted by yswyx at 2016-05-04 12:19:35
在剥离工艺中,光刻和显影之后,用plasma打底膜,顺便把PI膜轰击一下,然后再蒸发或者溅射金属。

谢谢,之前用plasma处理过,十几瓦的功率,时间5min左右,但是效果不大,是不是处理的时间不够?如果再用离子源轰击的话,会不会温度过高?PI最高只能承受300度,光刻胶的承受温度也不能太高的,不然去胶也是问题,大神是否之前做过呢?求指点。
5楼2016-05-04 16:04:52
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


【答案】应助回帖

引用回帖:
4楼: Originally posted by dorrnm at 2016-05-04 12:41:00
请问有没有试过在peteos上涂覆盖PI,为增加粘附性,用plasma预处理peteos膜也行吗?
...

没试过,plasma不是万能的,有些也不OK,比如玻璃衬底。而很多时候硅烷偶联剂先泡一下也是有效的。
9楼2016-05-05 16:17:04
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普通回帖

wjx513513

铜虫 (小有名气)

2楼2016-05-03 21:59:53
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


【答案】应助回帖

★ ★
感谢参与,应助指数 +1
天国之王: 金币+2, 有帮助 2016-05-04 16:05:08
在剥离工艺中,光刻和显影之后,用plasma打底膜,顺便把PI膜轰击一下,然后再蒸发或者溅射金属。
3楼2016-05-04 12:19:35
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dorrnm

金虫 (小有名气)

引用回帖:
3楼: Originally posted by yswyx at 2016-05-04 12:19:35
在剥离工艺中,光刻和显影之后,用plasma打底膜,顺便把PI膜轰击一下,然后再蒸发或者溅射金属。

请问有没有试过在peteos上涂覆盖PI,为增加粘附性,用plasma预处理peteos膜也行吗?

发自小木虫Android客户端
4楼2016-05-04 12:41:00
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天国之王

新虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by wjx513513 at 2016-05-03 21:59:53
等离子体处理

等离子体处理过,采用十几瓦的功率,时间5min左右,效果不大,不知道是不是时间不够?还是功率太小?
6楼2016-05-04 16:06:53
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aaron5235

木虫 (正式写手)

想请教PI镀ni有什么用途呢?不鍍Cu?

发自小木虫Android客户端
人生在世,俯仰之间,唯有追求卓越,但求尽其所能
7楼2016-05-05 11:02:38
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天国之王

新虫 (小有名气)

引用回帖:
7楼: Originally posted by aaron5235 at 2016-05-05 11:02:38
想请教PI镀ni有什么用途呢?不鍍Cu?

铜的附着力在PI上面很好么?
8楼2016-05-05 11:07:31
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


引用回帖:
5楼: Originally posted by 天国之王 at 2016-05-04 16:04:52
谢谢,之前用plasma处理过,十几瓦的功率,时间5min左右,但是效果不大,是不是处理的时间不够?如果再用离子源轰击的话,会不会温度过高?PI最高只能承受300度,光刻胶的承受温度也不能太高的,不然去胶也是问题, ...

这个功率并不大,不会有多高的温度。你用的是什么气体?氧?氩气?
10楼2016-05-05 16:18:18
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