应《网络安全法》要求，自2017年10月1日起，未进行实名认证将不得使用互联网跟帖服务。为保障您的帐号能够正常使用，请尽快对帐号进行手机号验证，感谢您的理解与支持！

24小时热门版块排行榜    

小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳器件 » Al剥离困难
51/1返回列表
查看: 2501  |  回复: 26
只看楼主 @他人 存档 新回复提醒 (忽略) 收藏    在APP中查看
当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖

1154606018

新虫 (小有名气)

[求助] Al剥离困难 已有4人参与

请问，磁控溅射Al很难剥离是怎么回事?丙酮，NMP都试过，同种光刻条件Ni很容易剥掉，Al很难很难，郁闷了。用SEM看了下显影后的光刻胶图形，发现不是倒角，但是Ni为何那么容易剥掉?想重新试光刻条件做成倒角，但是前烘时间，曝光时间与显影时间哪个更影响倒角的形成呢？可否给分析一下，谢谢啦！

发自小木虫Android客户端
回复此楼

» 收录本帖的淘帖专辑推荐

薄膜材料和器件制备

» 猜你喜欢
1楼 2016-03-29 23:42:12
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

1154606018

新虫 (小有名气)
引用回帖:
3楼: Originally posted by 盟维科技 at 2016-03-30 19:03:52
如果是正胶很难从工艺角度去变成倒角，你可以试试双层胶，使用负胶也可以，或者你考虑到胶厚的问题没

显影后用SEM测了胶2.5um厚度可以。用的AZ5214，不做反转，一次曝光加显影Ni剥离没问题，Al就是剥不掉。请问您说的用双层胶是什么意思

发自小木虫Android客户端
赞一下 回复此楼
4楼2016-03-30 23:58:34
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖
查看全部 27 个回答

盟维科技

捐助贵宾 (小有名气)

专家

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
如果是正胶很难从工艺角度去变成倒角，你可以试试双层胶，使用负胶也可以，或者你考虑到胶厚的问题没
赞一下 回复此楼
3楼2016-03-30 19:03:52
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

研材-jiali

捐助贵宾 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
建议你使用Lifft Off这种负胶做剥离，我们一般做铝的剥离不用5214，用的就是Lifft Off胶，丙酮一超声就下来了~
赞一下 回复此楼
5楼2016-03-31 11:01:24
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

研材-jiali

捐助贵宾 (小有名气)
商家已经主动声明此回帖可能含有宣传内容
引用回帖:
6楼: Originally posted by 1154606018 at 2016-03-31 11:04:05
lifft off胶?名字没有错吧?我掩膜板的设计只用于正胶啊,还有没有别的办法呀
...

这款：KXN5735-L0是一款 Lift-Off 高分辨率负性光刻胶，适用于 I 线(365nm)和 broadline，选择合适的旋涂速度（ 见旋涂曲线），可以获取厚度 2.2-5.2 微米的膜。在 合适的光刻工艺条件下获得极限分辨率达 4um @FT 3um 的倒梯形光刻胶图案（光刻胶壁倒角 65-80° ）。

你是做什么工艺呀？叉指电极？
赞一下 回复此楼
7楼2016-03-31 13:46:28
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖
查看全部 27 个回答
普通表情 龙 兔 虎 猫
信息提示
关闭
请填处理意见
关闭