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1154606018

新虫 (小有名气)

[求助] Al剥离困难 已有4人参与

请问,磁控溅射Al很难剥离是怎么回事?丙酮,NMP都试过,同种光刻条件Ni很容易剥掉,Al很难很难,郁闷了。用SEM看了下显影后的光刻胶图形,发现不是倒角,但是Ni为何那么容易剥掉?想重新试光刻条件做成倒角,但是前烘时间,曝光时间与显影时间哪个更影响倒角的形成呢?可否给分析一下,谢谢啦!

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盟维科技

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专家


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如果是正胶很难从工艺角度去变成倒角,你可以试试双层胶,使用负胶也可以,或者你考虑到胶厚的问题没
3楼2016-03-30 19:03:52
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1154606018

新虫 (小有名气)

引用回帖:
3楼: Originally posted by 盟维科技 at 2016-03-30 19:03:52
如果是正胶很难从工艺角度去变成倒角,你可以试试双层胶,使用负胶也可以,或者你考虑到胶厚的问题没

显影后用SEM测了胶2.5um厚度可以。用的AZ5214,不做反转,一次曝光加显影Ni剥离没问题,Al就是剥不掉。请问您说的用双层胶是什么意思

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4楼2016-03-30 23:58:34
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研材-jiali

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【答案】应助回帖

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建议你使用Lifft Off这种负胶做剥离,我们一般做铝的剥离不用5214,用的就是Lifft Off胶,丙酮一超声就下来了~
5楼2016-03-31 11:01:24
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研材-jiali

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引用回帖:
6楼: Originally posted by 1154606018 at 2016-03-31 11:04:05
lifft off胶?名字没有错吧?我掩膜板的设计只用于正胶啊,还有没有别的办法呀
...

这款:KXN5735-L0是一款 Lift-Off 高分辨率负性光刻胶,适用于 I 线(365nm)和 broadline,选择合适的旋涂速度( 见旋涂曲线),可以获取厚度 2.2-5.2 微米的膜。在 合适的光刻工艺条件下获得极限分辨率达 4um @FT 3um 的倒梯形光刻胶图案(光刻胶壁倒角 65-80° )。

你是做什么工艺呀?叉指电极?
7楼2016-03-31 13:46:28
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