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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳器件 » Al剥离困难
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1154606018

新虫 (小有名气)

[求助] Al剥离困难 已有4人参与

请问，磁控溅射Al很难剥离是怎么回事?丙酮，NMP都试过，同种光刻条件Ni很容易剥掉，Al很难很难，郁闷了。用SEM看了下显影后的光刻胶图形，发现不是倒角，但是Ni为何那么容易剥掉?想重新试光刻条件做成倒角，但是前烘时间，曝光时间与显影时间哪个更影响倒角的形成呢？可否给分析一下，谢谢啦！

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1楼 2016-03-29 23:42:12
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dezhuli

金虫 (小有名气)

博士

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
引用回帖:
19楼: Originally posted by Wsbgt789 at 2016-04-01 07:45:21
你好是哪里公司
...

苏州佳斯轩电子科技有限公司
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20楼2016-04-01 08:47:42
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盟维科技

捐助贵宾 (小有名气)

专家

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
如果是正胶很难从工艺角度去变成倒角，你可以试试双层胶，使用负胶也可以，或者你考虑到胶厚的问题没
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3楼2016-03-30 19:03:52
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1154606018

新虫 (小有名气)
引用回帖:
3楼: Originally posted by 盟维科技 at 2016-03-30 19:03:52
如果是正胶很难从工艺角度去变成倒角，你可以试试双层胶，使用负胶也可以，或者你考虑到胶厚的问题没

显影后用SEM测了胶2.5um厚度可以。用的AZ5214，不做反转，一次曝光加显影Ni剥离没问题，Al就是剥不掉。请问您说的用双层胶是什么意思

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4楼2016-03-30 23:58:34
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研材-jiali

捐助贵宾 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
建议你使用Lifft Off这种负胶做剥离，我们一般做铝的剥离不用5214，用的就是Lifft Off胶，丙酮一超声就下来了~
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5楼2016-03-31 11:01:24
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