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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 无机非金属 » 交流探讨 » 【有奖活动】晒晒我们的实验仪器
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cqhgyjg

金虫 (小有名气)
★ ★ ★ ★ ★
NJUT_tiger(金币-5,VIP+0):重复，两帖，只加3分（8-5）
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[ Last edited by NJUT_tiger on 2008-11-3 at 14:30 ]
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细节决定成败
41楼2008-11-01 10:22:16
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cqhgyjg

金虫 (小有名气)
【仪器图片】－－－－－
【仪器型号】----------- 旋转粘度计 NXS-11A
【仪器厂家】----------- 成都一个厂的（忘了）
【仪器作用】----------- 实验精密测量各种牛顿型流体的绝对粘度和非牛顿流体的流变特性。   
测量范围：（η）2.8～1.78×10?7mPa.s
剪切应力：（τ）27.67～21970Pa
剪切速率：（Ds）1.23～996s?-1
转速：（V）5.6～360r/min
重现性：±1％（F.S）
物料温度范围：室温～65℃
仪器最大尺寸：360×360×660mm
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细节决定成败
42楼2008-11-01 11:02:56
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guanqiqi

木虫 (著名写手)

微机控制电子万能试验机

★ ★ ★ ★ ★ ★
NJUT_tiger(金币+6):谢谢～～
CMT5105微机控制电子万能试验机
      仪器名称：CMT5105微机控制电子万能试验机
      生产厂家：深圳市新三思材料有限公司（价值：15.5万元）
      主要指标：最大试验力：50KN, 100KN，拉伸速度可调
      主要用途：可对各种金属、非金属及复合材料进行拉伸、压缩、弯曲、剪切、剥离、撕裂、穿刺、顶破、摩擦等多项试验
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43楼2008-11-01 18:22:18
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nicer

至尊木虫 (知名作家)

爱家nice-man
★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
NJUT_tiger(金币+7):谢谢，欢迎经常交流～～
仪器名称：快速热处理炉      

仪器图片：  

仪器简介：

型号： RTP-500

主要技术指标：

最高温度： 1300 o C

升温速率： 0.01-180 o C/sec

功能

快速加热

热处理薄膜


  
用途

用于硅片的快速氧化，快速氮化，硅基薄膜的结晶化处理等。




快速热处理炉
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44楼2008-11-01 20:36:42
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nicer

至尊木虫 (知名作家)

爱家nice-man
★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
NJUT_tiger(金币+8,VIP+0):谢谢，欢迎经常交流～～
仪器名称：脉冲激光溅射沉积系统      

仪器图片：  

仪器简介：

1 仪器名称：

脉冲激光溅射沉积系统

2 主要技术指标：

工作介质： KrF ；

激光波长： 248nm ；

单脉冲能量： 650mJ ；

平均功率： 30W ；

最大重复频率： 50Hz ；

能量稳定性： ± 4% 。


  
3 主要功能：

合成单层或多层功能复合薄膜，如铁电、铁磁、压电、有机无机复合薄膜， 合成纳米线、纳米管、纳米棒等一维或多维纳米材料，以及材料的改性处理等。

4 购买价钱

80.00 万
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45楼2008-11-01 20:37:58
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nicer

至尊木虫 (知名作家)

爱家nice-man

热蒸镀镀膜仪

★ ★ ★ ★ ★ ★
NJUT_tiger(金币+6,VIP+0):谢谢，欢迎经常交流～～
仪器名称：热蒸镀镀膜仪      

仪器图片：  

仪器简介：

型号：

主要技术指标：

真空度 : 5.0 ′ 10 -7 Pa

真空室大小： Φ 200×330

气路： 1

功能

制备薄膜样品
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46楼2008-11-01 20:39:08
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nicer

至尊木虫 (知名作家)

爱家nice-man

PR-1 型去胶机

★ ★ ★ ★ ★
NJUT_tiger(金币+5,VIP+0):谢谢，欢迎经常交流～～
仪器名称：PR-1 型去胶机      

仪器图片：  

仪器简介：

型号： PR-1

主要技术指标：

极限真空度 8 × 10 -1 Pa

反应室规格 f 210 × 110mm

去胶速率 100nm/min

射频功率 500W

功能

干法去光刻胶

反应离子刻蚀

用途

干法去除光刻胶，具有去胶速度快，对器件损伤小等特点。同时还可以用来进行硅的反应离子刻蚀。
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47楼2008-11-01 20:40:35
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nicer

至尊木虫 (知名作家)

爱家nice-man

超高真空电子束镀膜机

★ ★ ★ ★ ★
NJUT_tiger(金币+5,VIP+0):谢谢，欢迎经常交流～～
仪器名称：超高真空电子束镀膜机      

仪器图片：  

仪器简介：

型号： Explorer-14

主要技术指标：

极限真空度 6.7 × 10 -10 Torr

电子枪最大功率 5 kW

最大电压 8 kV

功能

电子束蒸发镀膜，单层和多层膜

高温沉积，最高温度 400 度

低温沉积，液氮温区

Explorer-14 超高真空镀膜机本底真空为 6.7 × 10 -10 Torr ，配有 5kW 的电子枪蒸镀系统，主要用于单层、多层金属和陶瓷薄膜的制备与研究
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48楼2008-11-01 20:42:19
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nicer

至尊木虫 (知名作家)

爱家nice-man

离子注入机

★ ★ ★ ★ ★ ★
NJUT_tiger(金币+6,VIP+0):谢谢，欢迎经常交流～～
仪器名称：离子注入机      

仪器图片：  

仪器简介：

离子注入机
Ion Beam Implanter

型号： LC-16
Model: LC-16

主要技术指标：


注入离子能量范围： 20-200KeV

注入离子种类 ：

B + 、 P + 、 Si + 、 Ar + 、

H + 、 N + 、 Xe + 、 Ni + 、

Zr + 、 Mo + 、 Fe + 等

束流强度：

B + 3 200 m A,

P + 3 400 m A,

N + 3 300 m A

Xe + 3 300 m A,

注入均匀性： 1 s ￡ 3 %

注入重复性： 1 s ￡ 3 %

注入面积： 5 cm ′ 5 cm

靶上束斑： 大约 F 20 mm

辐射剂量： ￡ 0.25 mr / h

控制方式： 手动
Parameters:


Incident Ion Energy ： 20-200KeV

Ion Types ：

B + , P + , Si + , Ar + ,

H + , N + , Xe + , Ni + ,

Zr + , Mo + , Fe + , etc.

Beam density ：

B + 3 200 m A,

P + 3 400 m A,

N + 3 300 m A

Xe + 3 300 m A,

Uniformity: 1 s ￡ 3 %

Reproduction: 1 s ￡ 3 %

Implanted Area: 5 cm ′ 5 cm

Beam size on target: ~ F 20 mm

Radiation Around ： ￡ 0.25 mr / h

Control Mode: manaul

功能：


1. 离子束混合

2. 离子束材料改性

3. 半导体掺杂

Functions:


1. Ion Beam Mixing

2. Modification of Materials by Ion Beam

3. Ion Beam Doping in Semiconductors

用途：


•  亚稳相变研究

•  材料改性研究

•  材料损伤研究

Applications:


•  Metastable Phase Transformation

•  Modification of Materials

•  Radiation Damages in Materials
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49楼2008-11-01 20:43:32
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xmc46525217

银虫 (正式写手)

少国产的，好不容易看到一台国产的“高剪切分散乳化机 ”还是装着德国原装马达

少国产的，好不容易看到一台国产的“高剪切分散乳化机 ”还是装着德国原装马达，咱们连马达都不如人家，国家前景在哪？
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50楼2008-11-01 20:44:01
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